تعد خزانات تنظيف رقائق الكوارتز Semicorex، المصنوعة بدقة من مواد الكوارتز عالية النقاء، مكونات لا غنى عنها مصممة خصيصًا للتنظيف الرطب للرقائق في تصنيع أشباه الموصلات المتطورة. باعتبارها الشركة الرائدة في الصناعة في الصين، تسعى Semicorex جاهدة لتزويد العملاء بحلول كوارتز مستقرة الأداء وفعالة من حيث التكلفة.
في مجالات التصنيع المتقدمة مثل الدوائر المتكاملة لأشباه الموصلات، فإن أي ملوثات بسيطة بما في ذلك الجسيمات والشوائب المعدنية والبقايا العضوية، ستؤدي إلى انخفاض أداء الجهاز أو حتى التسبب في فشل الجهاز. وبالتالي، يعد التنظيف الرطب عملية أساسية في الإنتاج لضمان نظافة الجهاز.خزانات تنظيف رقائق الكوارتز، الحاويات التي لا غنى عنها في هذه العملية، توفر بيئة تفاعل مناسبة لتجريد طبقة الأكسيد، وتحلل الملوثات العضوية واستخراج الأيونات المعدنية للرقائق.
مواد الكوارتز المستخدمة في Semicorexكوارتزتتميز خزانات تنظيف الرقاقات بنقاء عالي جدًا، ويتم التحكم في الشوائب المعدنية الرئيسية بما في ذلك Na وK وFe وCu تحت مستويات جزء في البليون. يمكن لهذه الخاصية الرائعة أن تقلل من خطر التلوث المعدني الناشئ عن خزانات تنظيف بسكويت الويفر أثناء عمليات تنظيف الويفر، وبالتالي ضمان نظافة الرقاقة وإنتاجية الإنتاج.
تحتاج عمليات التنظيف الرطب إلى استخدام محاليل مسببة للتآكل مثل H₂SO₄ وHNO₃ وأكوا ريجيا. تظهر هذه المحاليل تآكلًا قويًا تجاه معظم المواد، خاصة في ظل ظروف التشغيل ذات درجات الحرارة العالية. تتميز خزانات تنظيف رقائق الكوارتز Semicorex بأداء موثوق ضد التآكل، ويمكن أن تحتوي باستمرار على هذه المحاليل المسببة للتآكل مع الحفاظ على السلامة الهيكلية المستقرة.
من أجل تسريع التفاعلات الكيميائية وتعزيز تأثير التنظيف، تتطلب العديد من إجراءات التنظيف الرطب، مثل التنظيف القياسي RCA، درجات حرارة عالية. يمكن لخزانات تنظيف رقائق الكوارتز Semicorex أن توفر بشكل فعال حالة حرارية ثابتة للتفاعلات الكيميائية المعتمدة على درجة الحرارة بسبب ثباتها الحراري المستقر، مما يسمح لها بالتحرر من الصرير الناجم عن التغيرات المفاجئة في درجات الحرارة.
يتم تطبيقه في عمليات تنظيف الرقاقات لضمان دقة وإنتاجية العمليات الحاسمة مثل الطباعة الحجرية الضوئية وترسيب الأغشية الرقيقة.
يستخدم لتنظيف رقائق السيليكون الشمسية، بما في ذلك التركيب وإزالة الزجاج الفوسفوسيليكات (PSG) وتجريد الطبقة التالفة وتحسين كفاءة تحويل الخلايا الشمسية.
توفير بيئة خالية من التلوث لمعالجة التنظيف الرطب للهياكل الدقيقة عند تصنيع أجهزة MEMS وأشباه الموصلات المركبة ومكونات الألياف الضوئية.