بيت > منتجات > CVD كذا > حلقات التركيز الصلبة SiC
منتجات
حلقات التركيز الصلبة SiC

حلقات التركيز الصلبة SiC

حلقات التركيز الصلبة من Semicorex SiC هي أجزاء الحلقة الخزفية التي لا غنى عنها والمصنعة بدقة من مواد CVD SiC عالية الأداء، والتي تم تصميمها لتطبيقات حفر البلازما عالية الكثافة في صناعة أشباه الموصلات المتقدمة. تعني الشراكة مع Semicorex أنه يمكنك الاستمتاع بحلول CVD SiC المثالية لتحقيق تأثيرات النقش المثالية.

إرسال استفسار

وصف المنتج

أثناء عمليات حفر البلازما، تميل الاختلافات في مجال التردد الراديوي والطاقة الأيونية والنقل الجذري وتوزيع الحرارة إلى الحدوث على حافة الرقاقة. وهذا يجعل منطقة الحافة عرضة للمشكلات بما في ذلك تقلب معدل الحفر، وتحول الأبعاد الحرج، وتشويه المظهر الجانبي، وعيوب الحافة، وفقدان الإنتاجية. بالنسبة لتصنيع شرائح الذاكرة والمنطق المتقدمة، فإن الانحرافات الطفيفة عند حافة الرقاقة ستؤدي إلى تأثيرات مضخمة على أداء العملية عبر الرقاقة بأكملها. لهذا السبب، يتم اعتماد حلقات التركيز على نطاق واسع في الصناعة. يمكن لحلقات التركيز، الموضوعة حول الرقاقة داخل غرف الحفر، أن تحصر بدقة تغطية البلازما وتحمي حواف الرقاقة من الإفراط في الحفر، مما يحسن بشكل كبير من توحيد العملية بشكل عام وإنتاجية الإنتاج.



لماذا تختار حلقات التركيز الصلبة من سيميكوريكس SiC؟


1. خصائص المواد ممتازة


تختلف عن التقليديةحلقات التركيز الكوارتزمع مقاومة محدودة لتآكل البلازما وحلقة التركيز السيليكونالتي تعاني من الاستهلاك السريع في ظل النقش المكثف، حلقات التركيز Semicorex الصلبة من SiC، المصنعة منCكربيد السيليكون المزروع VD، تتميز ببنية داخلية كثيفة تمامًا وخالية من المواد الرابطة وتوفر العديد من خصائص المواد الممتازة المدرجة على النحو التالي:


أ. نقاء أعلى للمواد (مستوى جزء في المليون) ومحتوى أقل من الشوائب


ب. هيكل مادي كثيف ومسامية أقل


ج. انخفاض مستوى التفريغ


د. استقرار حراري أفضل


E. صلابة المواد الأكثر صلابة ومقاومة التآكل الفائقة


F. مقاومة التآكل أكثر استقرارا


معلمات المواد الرئيسية

غرض
وحدة
سمكس-سيك-Ⅰ


سمكس-سيك-Ⅱ


سمكس-سيك-Ⅲ
كثافة
جم/سم3
3.21
3.21
3.21
قوة الانثناء عند 25 درجة مئوية
MPa
380
530
480
قوة الشد عند 25 درجة مئوية
MPa
294
/ -
معامل يونج عند 25 درجة مئوية
المعدل التراكمي
480
440
480
صلابة (هونج كونج)
هونج كونج
3200
/ -
الصلابة (الجهد العالي)
الجهد العالي
2800
3000
2900
معامل التمدد الحراري (RT ~ 1000 درجة مئوية)
1/ك
4.3×10⁻⁶
4.3×10⁻⁶
4.6×10⁻⁶
الموصلية الحرارية (من خلال الطائرة)
ث / (م·ك)
/ 260
230
الموصلية الحرارية (داخل الطائرة)
ث / (م·ك)
280
235
220
السعة الحرارية المحددة
ي/(ز·ك)
0.63
0.66
0.66
المقاومة
أوم · سم
≥10⁶
≥10²
≥10⁰

البيانات المذكورة أعلاه هي للإشارة فقط.

2. مراقبة التصنيع عالية المستوى


مدعومة بخطوط الإنتاج المتكاملة وفريقها الفني المحترف، تقدم Semicorex خبرة فنية قوية وقدرات معالجة ذات خبرة. يمكننا تخصيص لديناحلقات تركيز SiC الصلبةاستنادًا إلى الرسومات الفنية للعملاء لتحقيق التحكم في الأبعاد على مستوى الميكرون، ومعالجة الأسطح المكررة، والتحكم في تجانس السمك المحكم، وإدارة شاملة لعيوب السطح وتنظيم الإجهاد الداخلي الذي يمكن الاعتماد عليه، وبالتالي ضمان التوافق التام مع أنظمة الحفر الخاصة بالعملاء.





الكلمات الساخنة: حلقات التركيز الصلبة SiC، الصين، المصنعين، الموردين، المصنع، حسب الطلب، السائبة، المتقدمة، دائم
الفئة ذات الصلة
إرسال استفسار
لا تتردد في تقديم استفسارك في النموذج أدناه. سوف نقوم بالرد عليك خلال 24 ساعة.
X
نحن نستخدم ملفات تعريف الارتباط لنقدم لك تجربة تصفح أفضل، وتحليل حركة مرور الموقع، وتخصيص المحتوى. باستخدام هذا الموقع، فإنك توافق على استخدامنا لملفات تعريف الارتباط. سياسة الخصوصية
يرفض يقبل