علبة دعم بوتقة

في صناعة أشباه الموصلات ذات درجات الحرارة العالية، يعد الاستقرار والدقة أمرًا بالغ الأهمية لضمان جودة الكريستال المتسقة. تلعب صينية دعم البوتقة Semicorex دورًا حيويًا ولكن غالبًا ما يتم تجاهله في الحفاظ على سلامة عملية نمو البلورات من خلال توفير أساس موثوق به في ظل الظروف الحرارية والميكانيكية القاسية.

صينية دعم البوتقة، والمعروفة أيضًا باسم أالكربون / الكربون (C / C)تم تصميم حامل البوتقة خصيصًا لدعم بوتقات الكوارتز أو الجرافيت أثناء نمو السيليكون البلوري الأحادي. يجب أن يتحمل هذا المكون، المتمركز في قاعدة المجال الحراري، التعرض لفترات طويلة لدرجات حرارة عالية مع الحفاظ على السلامة الهيكلية واستقرار الأبعاد. يضمن تصميمها القوي بقاء البوتقة في مكانها بشكل آمن طوال العملية، مما يقلل من الاهتزاز أو التشوه أو عدم المحاذاة التي قد تؤثر سلبًا على جودة البلورة.

دور علبة دعم C/C

أثناء نمو السيليكون أحادي البلورة، غالبًا ما تتجاوز درجات الحرارة 1400 درجة مئوية. مواد الجرافيت التقليدية، على الرغم من كونها مفيدة، إلا أنها غالبًا ما تواجه تحديات فيما يتعلق بالعمر والتشوه تحت الوزن الثقيل للسيليكون المنصهر. تعمل صينية دعم البوتقة المركبة C/C على حل نقاط الألم هذه.

من خلال استخدام مصفوفة معززة بألياف الكربون عالية القوة، توفر هذه الصينية ملف تمدد حراري "قريب من الصفر" وقدرة تحمل استثنائية. إنه بمثابة واجهة بين البوتقة والعمود الدوار، مما يحافظ على مستوى مثالي لمنع اضطراب الذوبان والعيوب البلورية.

المواصفات الفنية والتميز في المواد

الكثافة: ≥ 1.3 جم/سم3

قوة الانحناء: ≥ 110 ميجا باسكال

معامل التمدد الحراري (CTE): ≥ 1.0 × 10⁻⁶ /K

قوة الضغط: ≥ 160 ميجا باسكال