يمكنك أن تطمئن إلى شراء ICP Etching Carrier من مصنعنا وسوف نقدم لك أفضل خدمة ما بعد البيع والتسليم في الوقت المناسب. يتكون جهاز استقبال رقاقة Semicorex من الجرافيت المطلي بكربيد السيليكون باستخدام عملية ترسيب البخار الكيميائي (CVD). تمتلك هذه المادة خصائص فريدة، بما في ذلك مقاومة درجات الحرارة العالية والمواد الكيميائية، ومقاومة التآكل الممتازة، والموصلية الحرارية العالية، والقوة والصلابة العالية. هذه الخصائص تجعلها مادة جذابة لمختلف التطبيقات ذات درجات الحرارة العالية، بما في ذلك أنظمة الحفر بالبلازما المقترنة حثيًا.
نحن نقدم خدمة مخصصة، ونساعدك على الابتكار بمكونات تدوم لفترة أطول، وتقليل أوقات الدورات، وتحسين الإنتاجية.
قرص النقش Semicorex SiC ICP ليس مجرد مكونات؛ إنه عامل تمكين أساسي لتصنيع أشباه الموصلات المتطورة مع استمرار صناعة أشباه الموصلات في سعيها الدؤوب للتصغير والأداء، فإن الطلب على المواد المتقدمة مثل SiC سيزداد كثافة. إنه يضمن الدقة والموثوقية والأداء المطلوب لتشغيل عالمنا القائم على التكنولوجيا. نحن في Semicorex ملتزمون بتصنيع وتوريد قرص النقش SiC ICP عالي الأداء الذي يدمج الجودة مع فعالية التكلفة.**
اقرأ أكثرإرسال استفساريتم تصنيع Semicorex SiC Susceptor لـ ICP Etch مع التركيز على الحفاظ على معايير عالية من الجودة والاتساق. تضمن عمليات التصنيع القوية المستخدمة لإنشاء هذه المستقبلات أن كل دفعة تلبي معايير الأداء الصارمة، مما يوفر نتائج موثوقة ومتسقة في حفر أشباه الموصلات. بالإضافة إلى ذلك، تم تجهيز Semicorex لتقديم جداول تسليم سريعة، وهو أمر بالغ الأهمية لمواكبة متطلبات التحول السريع لصناعة أشباه الموصلات، وضمان تلبية الجداول الزمنية للإنتاج دون المساس بالجودة. نحن في Semicorex ملتزمون بتصنيع وتوريد الأداء العالي SiC Susceptor لـ ICP Etch الذي يدمج الجودة مع فعالية التكلفة.**
اقرأ أكثرإرسال استفسارتم تصميم مكون ICP المطلي بـ SiC من Semicorex خصيصًا لعمليات معالجة الرقاقات ذات درجة الحرارة العالية مثل epitaxy وMOCVD. مع طلاء كريستال SiC الناعم، توفر حاملاتنا مقاومة فائقة للحرارة، وحتى تجانسًا حراريًا، ومقاومة كيميائية متينة.
اقرأ أكثرإرسال استفسارعندما يتعلق الأمر بعمليات معالجة الرقاقات مثل epitaxy وMOCVD، فإن طلاء SiC عالي الحرارة من Semicorex لغرف حفر البلازما هو الخيار الأفضل. توفر ناقلاتنا مقاومة فائقة للحرارة، وتوحيدًا حراريًا، ومقاومة كيميائية متينة بفضل طلاء كريستال SiC الناعم.
اقرأ أكثرإرسال استفسارتم تصميم صينية النقش بالبلازما ICP من Semicorex خصيصًا لعمليات معالجة الرقاقات ذات درجة الحرارة العالية مثل النضوج وMOCVD. بفضل مقاومة الأكسدة المستقرة وعالية الحرارة التي تصل إلى 1600 درجة مئوية، توفر ناقلاتنا مقاطع حرارية متساوية وأنماط تدفق الغاز الصفائحي وتمنع انتشار التلوث أو الشوائب.
اقرأ أكثرإرسال استفساريعد الناقل المطلي بـ SiC من Semicorex لنظام ICP Plasma Etching System حلاً موثوقًا وفعالاً من حيث التكلفة لعمليات معالجة الرقاقات ذات درجة الحرارة العالية مثل epitaxy وMOCVD. تتميز ناقلاتنا بطبقة كريستال SiC الدقيقة التي توفر مقاومة فائقة للحرارة، وحتى تجانسًا حراريًا، ومقاومة كيميائية متينة.
اقرأ أكثرإرسال استفسار