- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
أخبار الشركة
مكونات Semicorex SiC في فرن عالي الحرارة
سيراميك SiC هو مادة مقاومة لدرجات الحرارة العالية، وهي متينة في عملية أشباه الموصلات. وفي الوقت نفسه، يمكن أن تكون المادة عالية النقاء لتلبية مستوى أشباه الموصلات. توفر شركة Semicorex العديد من منتجات سيراميك SiC المخصصة، مع تقنية الطباعة ثلاثية الأبعاد.
اقرأ أكثر
شرح تفصيلي لتقنية معالجة CVD SiC لأشباه الموصلات (الجزء الثاني)
في عملية ترسيب البخار الكيميائي (CVD)، تشتمل الغازات المستخدمة بشكل أساسي على الغازات المتفاعلة والغازات الحاملة. توفر الغازات المتفاعلة ذرات أو جزيئات للمادة المترسبة، بينما تستخدم الغازات الحاملة لتخفيف بيئة التفاعل والتحكم فيها. فيما يلي بعض غازات الأمراض القلبية الوعائية شائعة الاستخدام:
اقرأ أكثر
شرح تفصيلي لتقنية معالجة CVD SiC لأشباه الموصلات (الجزء الأول)
قبل مناقشة تقنية عملية ترسيب البخار الكيميائي (CVD) باستخدام كربيد السيليكون (Sic)، دعنا نراجع أولاً بعض المعرفة الأساسية حول "ترسيب البخار الكيميائي". يعد ترسيب البخار الكيميائي (CVD) تقنية شائعة الاستخدام لتحضير الطلاءات المختلفة. وهو يتضمن ترسيب المواد المتفاعلة الغازية على سطح الركيزة تحت ظرو......
اقرأ أكثر
