- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
أخبار الشركة
شرح تفصيلي لتقنية معالجة CVD SiC لأشباه الموصلات (الجزء الثاني)
في عملية ترسيب البخار الكيميائي (CVD)، تشتمل الغازات المستخدمة بشكل أساسي على الغازات المتفاعلة والغازات الحاملة. توفر الغازات المتفاعلة ذرات أو جزيئات للمادة المترسبة، بينما تستخدم الغازات الحاملة لتخفيف بيئة التفاعل والتحكم فيها. فيما يلي بعض غازات الأمراض القلبية الوعائية شائعة الاستخدام:
اقرأ أكثر
شرح تفصيلي لتقنية معالجة CVD SiC لأشباه الموصلات (الجزء الأول)
قبل مناقشة تقنية عملية ترسيب البخار الكيميائي (CVD) باستخدام كربيد السيليكون (Sic)، دعنا نراجع أولاً بعض المعرفة الأساسية حول "ترسيب البخار الكيميائي". يعد ترسيب البخار الكيميائي (CVD) تقنية شائعة الاستخدام لتحضير الطلاءات المختلفة. وهو يتضمن ترسيب المواد المتفاعلة الغازية على سطح الركيزة تحت ظرو......
اقرأ أكثر
لباد الكربون في فرن التسخين بالحث - الجزء 2
إن ملاءمة ألياف الكربون القائمة على الفسكوز لأنظمة العزل في بيئات التسخين التعريفي ذات درجة الحرارة العالية ترجع في المقام الأول إلى خصائصها الرئيسية، بما في ذلك الموصلية الحرارية المنخفضة، والاستقرار الحراري العالي، ومقاومة الصدمات الحرارية الممتازة، والنقاء العالي ومحتوى الشوائب المنخفض، وقابلية ا......
اقرأ أكثر
لباد قائم على الفسكوز في فرن التسخين التعريفي
إن ملاءمة ألياف الكربون القائمة على الفسكوز لأنظمة العزل في بيئات التسخين التعريفي ذات درجة الحرارة العالية ترجع في المقام الأول إلى خصائصها الرئيسية، بما في ذلك الموصلية الحرارية المنخفضة، والاستقرار الحراري العالي، ومقاومة الصدمات الحرارية الممتازة، والنقاء العالي ومحتوى الشوائب المنخفض، وقابلية ا......
اقرأ أكثر
