الجرافيت المسامي الصين مصنعون وموردون ومصنعون

يستخدم معظم منتجي ركائز SiC في الوقت الحاضر تصميمًا بوتقة يشتمل على أسطوانة جرافيت مسامية لعملية الحقل الساخن. تتضمن العملية وضع جزيئات SiC عالية النقاء بين جدار بوتقة الجرافيت وأسطوانة الجرافيت المسامية مع تعميق البوتقة وزيادة قطرها. يؤدي ذلك إلى زيادة مساحة التبخر للمادة الخام مع زيادة حجم الشحن أيضًا.

تحل العملية الجديدة مشكلة العيوب البلورية التي تنشأ بسبب إعادة تبلور الجزء العلوي من المادة الخام مع نمو سطح المادة المصدر، مما يؤثر على تدفق المادة المتسامية. علاوة على ذلك، فإن العملية الجديدة تقلل من حساسية توزيع درجة الحرارة لمنطقة المادة الخام لنمو البلورات، وتثبت كفاءة نقل الكتلة، وتقلل من تأثير شوائب الكربون خلال المرحلة المتأخرة من النمو، وتزيد من تحسين جودة بلورات SiC. بالإضافة إلى ذلك، تعتمد العملية الجديدة طريقة تثبيت صينية كريستال بدون بذور لا تلتصق ببلورات البذور، وبالتالي تحرير التمدد الحراري وتسهيل تخفيف الضغط. تعمل هذه العملية الجديدة على تحسين المجال الحراري وتحسين كفاءة التمدد بشكل كبير.

من المهم ملاحظة أن جودة وإنتاجية بلورات SiC المفردة التي تم الحصول عليها من خلال هذه العملية الجديدة تعتمد بشكل كبير على الخصائص الفيزيائية للجرافيت البوتقة والجرافيت المسامي. ومع ذلك، فإن العرض في السوق حاليًا قصير جدًا مقارنة بالطلب المتزايد.

الميزات الرئيسية للجرافيت المسامي:

توزيع مناسب لحجم المسام؛

مسامية عالية بما فيه الكفاية.

ميكانيكية لتلبية متطلبات المعالجة والاستخدام.

تقدم Semicorex منتجات جرافيت مسامية عالية الجودة مخصصة وفقًا لمتطلباتك.