LPE SiC-Epi هاف مون

من خلال حماية مكونات المعدات، ومنع التلوث، وضمان ظروف معالجة متسقة، تعمل شركة Semicorex LPE SiC-Epi Halfmoon على تمكين صناعة أشباه الموصلات من إنتاج أجهزة أكثر تطورًا وعالية الأداء تعمل على تشغيل عالمنا التكنولوجي.

تخضع العديد من المواد لتدهور الأداء عند درجات حرارة مرتفعة، ولكن ليس CVD TaC. يظل LPE SiC-Epi Halfmoon، بفضل ثباته الحراري الاستثنائي ومقاومته للأكسدة، سليمًا من الناحية الهيكلية وخاملًا كيميائيًا حتى في درجات الحرارة المرتفعة التي تتم مواجهتها داخل المفاعلات الفوقية. ويضمن ذلك معدلات تسخين متسقة، ويمنع التلوث من المكونات المتدهورة، ويتيح نموًا موثوقًا للبلورات. تنبع هذه المرونة من درجة انصهار TaC العالية (التي تتجاوز 3800 درجة مئوية) ومقاومته للأكسدة والصدمة الحرارية.

تعتمد العديد من العمليات الفوقي على الغازات التفاعلية مثل السيلان والأمونيا والمواد العضوية المعدنية لتوصيل الذرات المكونة للبلورة المتنامية. يمكن أن تكون هذه الغازات شديدة التآكل، وتهاجم مكونات المفاعل، ومن المحتمل أن تلوث الطبقة الفوقي الحساسة. يقف LPE SiC-Epi Halfmoon متحديًا وابل التهديدات الكيميائية. وينبع خمولها المتأصل للغازات التفاعلية من الروابط الكيميائية القوية داخل شبكة TaC، مما يمنع هذه الغازات من التفاعل مع الطلاء أو الانتشار من خلاله. هذه المقاومة الكيميائية الاستثنائية تجعل LPE SiC-Epi Halfmoon جزءًا مهمًا لحماية المكونات في بيئات المعالجة الكيميائية القاسية.

الاحتكاك هو عدو الكفاءة وطول العمر. يعمل طلاء CVD TaC الخاص بـ LPE SiC-Epi Halfmoon كدرع لا يقهر ضد التآكل، مما يقلل بشكل كبير من معاملات الاحتكاك ويقلل من فقدان المواد أثناء التشغيل. تعتبر مقاومة التآكل الاستثنائية هذه ذات قيمة خاصة في التطبيقات عالية الضغط  حيث يمكن أن يؤدي التآكل المجهري إلى تدهور كبير في الأداء وفشل مبكر. يتفوق LPE SiC-Epi Halfmoon في هذه الساحة، حيث يوفر تغطية امتثالية استثنائية تضمن حتى الأشكال الهندسية الأكثر تعقيدًا الحصول على طبقة كاملة وواقية، مما يعزز الأداء وطول العمر.

لقد ولت الأيام التي كانت فيها طلاءات CVD TaC مقتصرة على مكونات صغيرة متخصصة. أتاحت التطورات في تكنولوجيا الترسيب إنشاء طبقات طلاء على ركائز يصل قطرها إلى 750 مم، مما يمهد الطريق لمكونات أكبر وأكثر قوة قادرة على التعامل مع التطبيقات الأكثر تطلبًا.

جزء نصف القمر مقاس 8 بوصة لمفاعل LPE

مزايا طلاءات CVD TaC في Epitaxy:

أداء الجهاز المحسن:من خلال الحفاظ على نقاء العملية واتساقها، تساهم طلاءات CVD TaC في نمو الطبقات الفوقية عالية الجودة مع خصائص كهربائية وبصرية محسنة، مما يؤدي إلى تحسين الأداء في أجهزة أشباه الموصلات.

زيادة الإنتاجية والإنتاجية:يعمل العمر الممتد للمكونات المطلية بـ CVD TaC على تقليل وقت التوقف عن العمل المرتبط بالصيانة والاستبدال، مما يؤدي إلى زيادة وقت تشغيل المفاعل وزيادة إنتاجية الإنتاج. بالإضافة إلى ذلك، فإن انخفاض مخاطر التلوث يترجم إلى زيادة إنتاجية الأجهزة القابلة للاستخدام.

فعالية التكلفة:في حين أن طلاءات CVD TaC قد تكون لها تكلفة أولية أعلى، فإن عمرها الممتد، وانخفاض متطلبات الصيانة، وتحسين إنتاجية الأجهزة تساهم في توفير كبير في التكلفة على مدار عمر المعدات الفوقية.