MOCVD SiC المطلي بالجرافيت

يعد Semicorex MOCVD SiC Coated Graphite Susceptor مكونًا متقدمًا ومتخصصًا يستخدم في عملية ترسيب الأبخرة الكيميائية المعدنية العضوية، وهي تقنية مهمة في إنتاج أشباه الموصلات والأجهزة الإلكترونية البصرية وغيرها من المواد المتقدمة. يلعب هذا المستقبل دورًا محوريًا في تسهيل نمو الأغشية الرقيقة والطبقات الفوقية بدقة وكفاءة.

تم تصنيع جهاز MOCVD SiC المطلي بالجرافيت من الجرافيت عالي الجودة، وتم اختياره لاستقراره الحراري والتوصيل الحراري الممتاز. إن الخصائص المتأصلة للجرافيت تجعله مادة مثالية لتحمل الظروف الصعبة داخل مفاعل MOCVD. لتعزيز أدائه وإطالة عمره الافتراضي، تم تغليف مستقبل الجرافيت بدقة بطبقة من كربيد السيليكون (SiC).

يعتبر جهاز MOCVD SiC المطلي بالجرافيت عنصرًا رئيسيًا في عالم تصنيع أشباه الموصلات، حيث يجسد اندماج المواد المتطورة والهندسة الدقيقة. إن متانته وكفاءته الحرارية وقدراته الوقائية تجعله عنصرًا لا غنى عنه في البحث عن أغشية رقيقة عالية الجودة وقابلة للتكرار وطبقات فوقية ضرورية لتصنيع الأجهزة الإلكترونية والإلكترونية الضوئية المتقدمة.