مواد الجرافيت المسامية لتطبيقات النمو أحادية البلورة SiC

مواد الجرافيت المسامية Semicorex لتطبيقات النمو أحادية البلورة SiC، هي مادة متخصصة تستخدم في معالجة أشباه الموصلات. تلعب هذه القطعة المهمة من المعدات دورًا محوريًا في جودة بلورة SiC المفردة. تلتزم Semicorex بتوفير منتجات عالية الجودة بأسعار تنافسية، ونحن نتطلع إلى أن نصبح شريكك على المدى الطويل في الصين.

إرسال استفسار

وصف المنتج

يمكنك أن تطمئن إلى شراء مواد الجرافيت المسامية لتطبيقات نمو Crystal SiC الفردية من مصنعنا. تم تصميم مواد الجرافيت المسامية Semicorex لتلبية المتطلبات الصارمة لتطبيقات نمو بلورات SiC. تم تصميم هذه المواد بدقة وتصنيعها لتحقيق الأداء، وهي مفتاحك لتحقيق بلورات SiC فائقة الجودة والنقاء الذي لا مثيل له.

سمات:

مسامية محسنة: تتميز مواد الجرافيت المسامية لدينا بمستويات مسامية يتم التحكم فيها بدقة لتسهيل نمو بلورة SiC المفردة. يضمن التوزيع الموحد للمسام نتائج متسقة وموثوقة.

الموصلية الحرارية العالية: لضمان نقل الحرارة بكفاءة أثناء عملية نمو SiC، تم تصميم موادنا بموصلية حرارية عالية، مما يقلل من التدرجات الحرارية ويقلل من العيوب البلورية.

الخمول الكيميائي: تعتبر مقاومة البيئات الكيميائية القاسية أمرًا بالغ الأهمية في تطبيقات نمو البلورات. موادنا خاملة كيميائيًا بشكل استثنائي، مما يضمن بقاءها مستقرة وغير متأثرة بالطبيعة المسببة للتآكل لعمليات نمو SiC.

الاستقرار الميكانيكي: تم تصميم هذه المواد لتدوم طويلاً، وتتميز بثبات ميكانيكي استثنائي، مما يقلل من خطر التشوه أو التلف أثناء الاستخدام الممتد.

قابلية التخصيص: نحن ندرك أن عمليات نمو البلورات المختلفة لها متطلبات فريدة. ولهذا السبب نقدم مجموعة من خيارات التخصيص، بما في ذلك مستويات المسامية والأحجام والأشكال المختلفة، لتخصيص موادنا وفقًا لاحتياجاتك الخاصة.