لوحة كوكبية مطلية بـ TaC

تعمل اللوحة الكوكبية المطلية بـ Semicorex TaC كمكون رئيسي في مفاعلات MOCVD، حيث تعرض تصميمًا كوكبيًا يتميز بالعديد من جيوب الرقاقات المرتبة على طول سطحها. تم إنشاء هذه الجيوب خصيصًا لاستيعاب الرقاقات بشكل موثوق أثناء مرحلة نمو أي طبقة فوقية، مما يؤدي إلى تثبيت رقائق الركيزة وتقليل حركة الركيزة تحت درجات حرارة المعالجة المرتفعة. توفر هندسة الجيب الدقيقة موضعًا ثابتًا للرقاقة وهو أمر مهم للسمك الموحد للطبقات الفوقي ومستويات التوحيد لعيوب الركيزة لجميع الرقاقات المزروعة خلال نفس العملية.

أحد الجوانب المهمة في تصميم اللوحة الكوكبية، مرة أخرى، هو التشتيت الهندسي لفتحات تدفق الغاز الدقيقة على طول سطح اللوحة. تم تصميم هذه الثقوب بعناية وتم وضعها في موقع استراتيجي خصيصًا لقياس تدفق الغازات الأولية في المفاعل، بحيث يتم تحقيق تشتيت الغاز الموحد وترسيبه بين كل رقاقة. في أي عملية MOCVD، تعد جوانب ديناميكيات الغاز أمرًا بالغ الأهمية في تحديد جودة الفيلم، وتوحيد السُمك، والأداء العام للجهاز. تصميم الثقب الأمثل علىمطلي بـ TaCتضمن اللوحة الكوكبية أن تخضع جميع الرقائق لنفس ظروف المعالجة، مما يوفر طريقة مثالية لتحسين الإنتاجية وإمكانية التكاثر.

الطلاء TaC (كربيد التنتالوم).يزيد من أداء وعمر لوحة الكواكب. كربيد التنتالوم صلب للغاية، وخامل كيميائيًا، وموصل للحرارة، مما يجعله طلاءًا ممتازًا لبيئات MOCVD القاسية. خلال مرحلة النضوج، ستواجه المكونات الموجودة في المفاعل درجات حرارة عالية وغازات سلائف تفاعلية وتعرضًا للبلازما. يعمل طلاء TaC كحاجز قوي أمام التآكل والأكسدة وتوليد الجسيمات مما يؤدي إلى إطالة عمر اللوحة الكوكبية بشكل كبير مقارنة باللوحة غير المطلية أو المطلية تقليديًا.

إن طول عمر اللوحة الكوكبية المطلية بـ TaC ومتانتها يجعلها خيارًا فعالاً من حيث التكلفة لأنظمة MOCVD. يمكن لطبقة TaC المتينة أن تتحمل التدوير الحراري المتكرر والتعرض لغازات المعالجة الشديدة مع الحفاظ على السلامة الهيكلية واستقرار الأداء أثناء التشغيل على أطر زمنية ممتدة.