مستقبلات الويفر المطلية بـ TaC

يعتبر Semicorex TaC Coated Wafer Susceptor مكونًا حاسمًا يستخدم في أفران ترسيب البخار الكيميائي المعدني العضوي (MOCVD) لمعالجة أشباه الموصلات الفوقي (epi). تم تصنيع هذا المستطيل الدائري المتخصص من مادة الجرافيت عالية الجودة ويتميز بطبقة فريدة من كربيد التنتالوم (TaC).

الغرض الأساسي من طلاء TaC هو تعزيز أداء ومتانة جهاز TaC Coated Wafer Susceptor أثناء الظروف الصعبة لعمليات تصنيع أشباه الموصلات. يُعرف كربيد التنتالوم بصلابته الاستثنائية ونقطة انصهاره العالية ومقاومته للتآكل والتآكل. هذه الخصائص تجعل من TaC Coated Wafer Susceptor خيارًا مثاليًا لحماية مستقبل الجرافيت الأساسي من التفاعلات الكيميائية والضغوط الفيزيائية التي تحدث داخل فرن MOCVD.

يلعب TaC Coated Wafer Susceptor دورًا حيويًا في النمو الفوقي لمواد أشباه الموصلات من خلال تسهيل ترسيب الأغشية الرقيقة على الرقائق. تعد قدرتها على تحمل درجات الحرارة المرتفعة والبيئات الكيميائية القاسية أمرًا بالغ الأهمية لتحقيق تصنيع أجهزة أشباه الموصلات بدقة وموثوقية.

يضمن جهاز الويفر المطلي بـ TaC، مع قلب الجرافيت وطلاء كربيد التنتالوم، توزيعًا ثابتًا وموحدًا للحرارة، مما يساهم في استنساخ وجودة طبقات أشباه الموصلات المزروعة أثناء عملية MOCVD. إن مزيج المواد المتقدمة هذا يجعله حلاً موثوقًا ودائمًا لتصنيع أشباه الموصلات، مما يلبي المتطلبات الصارمة لإنتاج الأجهزة الإلكترونية الحديثة.