أفران ترسيب البخار الكيميائي CVD

تستخدم أفران ترسيب الأبخرة الكيميائية من Semicorex CVD المصممة لأمراض القلب والأوعية الدموية و CVI ، لإيداع المواد على الركيزة. درجة حرارة التفاعل تصل إلى 2200 درجة مئوية. تعمل أدوات التحكم في التدفق الشامل والصمامات المعدلة على تنسيق الغازات المتفاعلة والحاملة مثل N و H و Ar و CO2 والميثان ورابع كلوريد السيليكون وميثيل ثلاثي كلورو سيلان والأمونيا. تشتمل المواد المودعة على كربيد السيليكون ، والكربون الانحلال الحراري ، ونتريد البورون ، وسيلينيد الزنك ، وكبريتيد الزنك. أفران ترسيب البخار الكيميائي CVD لها هياكل أفقية ورأسية.

طلب:طلاء SiC للمواد المركبة C / C ، طلاء SiC للجرافيت ، SiC ، BN و ZrC للألياف وغيرها.

ميزات أفران ترسيب البخار الكيميائي سيميكوركس CVD

1. تصميم متين مصنوع من مواد عالية الجودة للاستخدام على المدى الطويل ؛

2 التحكم الدقيق في توصيل الغاز من خلال استخدام أجهزة التحكم في التدفق الشامل والصمامات عالية الجودة ؛

3. مجهزة بميزات السلامة مثل الحماية من درجات الحرارة الزائدة وكشف تسرب الغاز من أجل تشغيل آمن وموثوق ؛

4.Using متعددة مناطق التحكم في درجة الحرارة ، وتوحيد كبير في درجة الحرارة ؛

5.غرفة ترسيب مصممة خصيصًا مع تأثير ختم جيد وأداء رائع لمكافحة التلوث ؛

6. استخدام قنوات ترسيب متعددة مع تدفق غاز موحد ، دون ترسب الزوايا الميتة وسطح ترسيب مثالي ؛

7- معالجة القطران والغبار الصلب والغازات العضوية أثناء عملية الترسيب

* يمكن تعديل المعلمات المذكورة أعلاه لمتطلبات العملية ، فهي ليست كمعيار قبول ، والمواصفات التفصيلية. سيتم ذكرها في العرض الفني والاتفاقيات.