أفران ترسيب البخار الكيميائي CVD

يتم استخدام أفران ترسيب البخار الكيميائي Semicorex CVD المصممة لـ CVD وCVI لترسيب المواد على الركيزة. درجات حرارة التفاعل تصل إلى 2200 درجة مئوية. تعمل أدوات التحكم في التدفق الشامل وصمامات التعديل على تنسيق الغازات المتفاعلة والناقلة مثل N وH وAr وCO2 والميثان ورابع كلوريد السيليكون وميثيل ثلاثي كلوروسيلان والأمونيا. تشمل المواد المترسبة كربيد السيليكون، والكربون الحراري، ونيتريد البورون، وسيلينيد الزنك، وكبريتيد الزنك. تحتوي أفران ترسيب البخار الكيميائي CVD على هياكل أفقية ورأسية.

طلب:طلاء SiC للمواد المركبة C/C، طلاء SiC للجرافيت، طلاء SiC، BN وZrC للألياف وغيرها.

مميزات أفران ترسيب البخار الكيميائي Semicorex CVD

1. تصميم قوي مصنوع من مواد عالية الجودة للاستخدام طويل الأمد؛

2. التحكم بدقة في توصيل الغاز من خلال استخدام وحدات التحكم في التدفق الشامل والصمامات عالية الجودة؛

3. مجهزة بميزات السلامة مثل الحماية من درجة الحرارة الزائدة والكشف عن تسرب الغاز لعملية آمنة وموثوقة.

4. باستخدام مناطق التحكم في درجة الحرارة المتعددة، توحيد درجة الحرارة بشكل كبير؛

5. غرفة ترسيب مصممة خصيصًا مع تأثير ختم جيد وأداء رائع ضد التلوث؛

6. استخدام قنوات ترسيب متعددة مع تدفق غاز موحد، بدون زوايا ترسيب ميتة وسطح ترسيب مثالي؛

7. معالجة للقطران والغبار الصلب والغازات العضوية أثناء عملية الترسيب

* يمكن تعديل المعلمات المذكورة أعلاه وفقًا لمتطلبات العملية، فهي ليست معيار القبول أو المواصفات التفصيلية. سيتم ذكر ذلك في العرض الفني والاتفاقيات.