ترسيب السيليكون الفوقي في مفاعل البرميل

يعتبر Semicorex Silicon Epitaxial Deposition In Barrel Reactor منتجًا مثاليًا لزراعة الطبقات الفوقية على رقائق الويفر. إنه حامل جرافيت عالي النقاء مطلي بطبقة SiC ومقاوم للغاية للحرارة والتآكل، مما يجعله مثاليًا للاستخدام في البيئات القاسية. يعتبر هذا المستشعر الأسطواني مناسبًا لـ LPE، ويوفر أداءً حراريًا ممتازًا، مما يضمن تساوي المظهر الحراري. بالإضافة إلى ذلك، فهو يضمن أفضل نمط لتدفق الغاز الرقائقي ويمنع التلوث أو الشوائب من الانتشار إلى الرقاقة.

في Semicorex، نركز على توفير منتجات عالية الجودة وفعالة من حيث التكلفة لعملائنا. يتمتع منتجنا الخاص بالترسيب الفوقي للسيليكون في مفاعل البرميل بميزة سعرية ويتم تصديره إلى العديد من الأسواق الأوروبية والأمريكية. نحن نهدف إلى أن نكون شريكك على المدى الطويل، ونقدم منتجات ذات جودة متسقة وخدمة عملاء استثنائية.

معاملات الترسيب الفوقي للسيليكون في المفاعل البرميلي

مميزات الترسيب الفوقي للسيليكون في المفاعل البرميلي

- تتمتع كل من طبقة الجرافيت وطبقة كربيد السيليكون بكثافة جيدة ويمكن أن تلعب دورًا وقائيًا جيدًا في درجات الحرارة المرتفعة وبيئات العمل المسببة للتآكل.

- المستقبِل المطلي بكربيد السيليكون المستخدم لنمو البلورة المفردة له سطح مسطح عالي جدًا.

- تقليل الفرق في معامل التمدد الحراري بين طبقة الجرافيت وطبقة كربيد السيليكون، وتحسين قوة الترابط بشكل فعال لمنع التشقق والتصفيح.

- تتمتع كل من ركيزة الجرافيت وطبقة كربيد السيليكون بموصلية حرارية عالية وخصائص ممتازة لتوزيع الحرارة.

- نقطة انصهار عالية، مقاومة الأكسدة في درجات الحرارة العالية، مقاومة للتآكل.