حلقات تركيز متينة لمعالجة أشباه الموصلات

تم تصميم حلقات التركيز المتينة Semicorex لمعالجة أشباه الموصلات لتحمل البيئات القاسية لغرف حفر البلازما المستخدمة في معالجة أشباه الموصلات. حلقات التركيز الخاصة بنا مصنوعة من الجرافيت عالي النقاء والمغطى بطبقة كثيفة من كربيد السيليكون (SiC) المقاومة للاهتراء. يتميز طلاء SiC بخصائص مقاومة عالية للتآكل والحرارة، فضلاً عن التوصيل الحراري الممتاز. نحن نطبق SiC في طبقات رقيقة على الجرافيت باستخدام عملية ترسيب البخار الكيميائي (CVD) لتحسين عمر خدمة حلقات التركيز لدينا.

إرسال استفسار

وصف المنتج

تم تصميم حلقات التركيز المتينة الخاصة بنا لمعالجة أشباه الموصلات لتحسين تجانس الحفر حول حافة الرقاقة أو محيطها، مما يقلل التلوث والصيانة غير المجدولة. إنها مستقرة للغاية للتليين الحراري السريع (RTA)، والمعالجة الحرارية السريعة (RTP)، والتنظيف الكيميائي القاسي.

في Semicorex، نركز على توفير حلقات تركيز متينة عالية الجودة وفعالة من حيث التكلفة لمعالجة أشباه الموصلات، ونعطي الأولوية لرضا العملاء ونقدم حلولًا فعالة من حيث التكلفة. نحن نتطلع إلى أن نصبح شريكك على المدى الطويل، ونقدم منتجات عالية الجودة وخدمة عملاء استثنائية.

اتصل بنا اليوم لمعرفة المزيد عن حلقات التركيز المتينة الخاصة بنا لمعالجة أشباه الموصلات.

معلمات حلقات التركيز المتينة لمعالجة أشباه الموصلات

المواصفات الرئيسية لطلاء CVD-SIC
خصائص SiC-CVD
الهيكل البلوري	المرحلة FCC β
كثافة	جم/سم ³	3.21
صلابة	صلابة فيكرز	2500
حجم الحبوب	ميكرومتر	2~10
النقاء الكيميائي	%	99.99995
القدرة الحرارية	ي كغ-1 ك-1	640
درجة حرارة التسامي	℃	2700
قوة العطف	ميجا باسكال (RT 4 نقاط)	415
معامل يونغ	المعدل التراكمي (انحناء 4pt، 1300 درجة مئوية)	430
التمدد الحراري (C.T.E)	10-6 ك-1	4.5
الموصلية الحرارية	(ث / م ك)	300