غطاء غرفة الفراغ MOCVD

يجب أن يتحمل غطاء غرفة التفريغ MOCVD المستخدم في نمو البلورات ومعالجة مناولة الويفر درجات حرارة عالية وتنظيف كيميائي قاسي. غطاء غرفة مفرغة MOCVD مطلي بكربيد السيليكون من Semicorex مصمم خصيصًا لمواجهة هذه البيئات الصعبة. تتمتع منتجاتنا بميزة سعرية جيدة وتغطي العديد من الأسواق الأوروبية والأمريكية. نتطلع إلى أن نصبح شريكك على المدى الطويل في الصين.

إرسال استفسار

وصف المنتج

مكونات الجرافيت Semicorex عبارة عن جرافيت عالي النقاء مطلي بكربيد السيليكون ، يستخدم في هذه العملية لتنمية عملية البلورة المفردة والرقائق. يتميز نمو مجمع غطاء غرفة الفراغ MOCVD بمقاومة عالية للحرارة والتآكل ، وهو متين لتجربة مزيج من الغازات السليفة المتطايرة والبلازما ودرجة الحرارة المرتفعة.

في Semicorex ، نحن ملتزمون بتقديم منتجات وخدمات عالية الجودة لعملائنا. نحن نستخدم أفضل المواد فقط ، ومنتجاتنا مصممة لتلبية أعلى معايير الجودة والأداء. غطاء غرفة التفريغ MOCVD الخاص بنا ليس استثناءً. اتصل بنا اليوم لمعرفة المزيد حول كيف يمكننا مساعدتك في تلبية احتياجات معالجة رقاقة أشباه الموصلات.

معلمات غطاء غرفة الفراغ MOCVD

المواصفات الرئيسية لطلاء CVD-SIC
خصائص SiC-CVD
هيكل بلوري	مرحلة FCC Î²
كثافة	ز / سم ³	3.21
صلابة	صلابة فيكرز	2500
حجم الحبوب	Î¼ م	2 ~ 10
نقاء كيميائي	%	99.99995
السعة الحرارية	J · kg-1 · K-1	640
درجة حرارة التسامي	℃	2700
قوة فيليكسورال	MPa (RT 4 نقاط)	415
معامل يونغ	المعدل التراكمي (منحنى 4 نقاط ، 1300 درجة)	430
التمدد الحراري (CTE)	10-6 ك -1	4.5
توصيل حراري	(ث / م ك)	300