غطاء غرفة الفراغ MOCVD

يجب أن يتحمل غطاء غرفة التفريغ MOCVD المستخدم في نمو البلورات ومعالجة الرقائق درجات الحرارة العالية والتنظيف الكيميائي القاسي. غطاء غرفة الفراغ MOCVD المطلي بكربيد السيليكون من Semicorex مصمم خصيصًا لتحمل هذه البيئات الصعبة. تتمتع منتجاتنا بميزة سعرية جيدة وتغطي العديد من الأسواق الأوروبية والأمريكية. ونحن نتطلع إلى أن نصبح شريكك على المدى الطويل في الصين.

إرسال استفسار

وصف المنتج

مكونات Semicorex Graphite عبارة عن جرافيت مطلي بـ SiC عالي النقاء، ويستخدم في العملية لتنمية عملية البلورة والرقاقة الفردية. يتميز نمو مركب غطاء غرفة الفراغ MOCVD بمقاومة عالية للحرارة والتآكل، كما أنه متين لتجربة مزيج من الغازات الأولية المتطايرة والبلازما ودرجة الحرارة المرتفعة.

في Semicorex، نحن ملتزمون بتقديم منتجات وخدمات عالية الجودة لعملائنا. نحن نستخدم فقط أفضل المواد، وتم تصميم منتجاتنا لتلبية أعلى معايير الجودة والأداء. غطاء غرفة التفريغ MOCVD الخاص بنا ليس استثناءً. اتصل بنا اليوم لمعرفة المزيد حول كيف يمكننا مساعدتك في تلبية احتياجات معالجة رقائق أشباه الموصلات الخاصة بك.

معلمات غطاء غرفة الفراغ MOCVD

المواصفات الرئيسية لطلاء CVD-SIC
خصائص SiC-CVD
الهيكل البلوري	المرحلة FCC β
كثافة	جم/سم ³	3.21
صلابة	صلابة فيكرز	2500
حجم الحبوب	ميكرومتر	2~10
النقاء الكيميائي	%	99.99995
القدرة الحرارية	ي كغ-1 ك-1	640
درجة حرارة التسامي	℃	2700
قوة العطف	ميجا باسكال (RT 4 نقاط)	415
معامل يونغ	المعدل التراكمي (انحناء 4pt، 1300 درجة مئوية)	430
التمدد الحراري (C.T.E)	10-6 ك-1	4.5
الموصلية الحرارية	(ث / م ك)	300