يعد Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor منتجًا متينًا وموثوقًا للغاية لزراعة الطبقات الفوقية على رقائق الويفر. مقاومة الأكسدة لدرجات الحرارة العالية والنقاء العالي تجعلها مناسبة للاستخدام في صناعة أشباه الموصلات. إن مظهرها الحراري المتساوي ونمط تدفق الغاز الرقائقي ومنع التلوث يجعلها خيارًا مثاليًا لنمو الطبقة الفوقية عالية الجودة.
اقرأ أكثرإرسال استفسار