ALD متقبل الكواكب

التطبيقات:

ترسيب عازل عالي الجودة: يُظهر ALD Planetary Susceptor مقاومة ممتازة للسلائف العدوانية المستخدمة في ترسيب المواد العازلة عالية العزل مثل أكسيد الهافنيوم (HfO2) وأكسيد الألومنيوم (Al2O3). وهذا يجعل ALD Planetary Susceptor مناسبًا لتصنيع ترانزستورات عالية الأداء لتطبيقات المنطق والذاكرة.

طبقات المعدنة: يسمح استقرار درجة الحرارة العالية لـ ALD Planetary Susceptor بترسيب طبقات المعدن في درجات حرارة مرتفعة، مما يؤدي إلى تحسين خصائص الفيلم مثل المقاومة المنخفضة والكثافة الأعلى. يعد هذا أمرًا بالغ الأهمية لإنشاء روابط فعالة في أجهزة أشباه الموصلات المتقدمة.

تصنيع الأجهزة الضوئية:تعمل الطبيعة الخاملة لـ ALD Planetary Susceptor على تقليل التفاعلات غير المرغوب فيها مع السلائف المستخدمة في ترسيب المواد الحساسة مثل أشباه الموصلات III-V، مما يجعل ALD Planetary Susceptor مناسبًا تمامًا لتصنيع مصابيح LED والليزر والمكونات الإلكترونية الضوئية الأخرى.

دورة ألد

ترسيب الطبقة الذرية (ALD)تقدم العديد من المزايا الرئيسية مقارنة بتقنيات ترسيب الأغشية الرقيقة الأخرى، مما يجعلها ذات شعبية متزايدة لمختلف التطبيقات، وخاصة في مجال الإلكترونيات الدقيقة وتكنولوجيا النانو.

فيما يلي بعض المزايا الرئيسية لـ ALD:

1. التحكم في سمك مستوى أنجستروم:

يسمح ALD بالتحكم الدقيق في سماكة الفيلم وصولاً إلى مستوى أنجستروم (0.1 نانومتر). يتم تحقيق هذا المستوى من الدقة من خلال التفاعلات السطحية ذاتية التحديد، حيث تقوم كل دورة بترسيب طبقة ذرية واحدة.

2. التوحيد والمطابقة الممتازة:

يُظهر ALD تجانسًا استثنائيًا على مساحات الأسطح الكبيرة والهياكل ثلاثية الأبعاد المعقدة، بما في ذلك ميزات نسبة العرض إلى الارتفاع العالية مثل الخنادق والطرق. وهذا أمر بالغ الأهمية للتطبيقات التي تتطلب طلاءات موحدة على الأشكال الهندسية المعقدة، كما هو الحال في أجهزة أشباه الموصلات.

3. انخفاض درجة حرارة الترسيب:

يمكن إجراء ALD في درجات حرارة منخفضة نسبيًا (غالبًا أقل من 300 درجة مئوية) مقارنة بتقنيات الترسيب الأخرى. وهذا مفيد للركائز الحساسة للحرارة ويتيح استخدام مجموعة واسعة من المواد.

4. أفلام عالية الجودة:

تنتج ALD عادةً أفلامًا ذات كثافة ممتازة، ومستويات شوائب منخفضة، وتوحيد عالي في التركيب والسمك. هذه الخصائص ضرورية لتحقيق الأداء الأمثل في مختلف التطبيقات.

5. اختيار واسع للمواد:

يقدم ALD مجموعة واسعة من المواد التي يمكن ترسيبها، بما في ذلك الأكاسيد والنيتريدات والمعادن والكبريتيدات. هذا التنوع يجعله مناسبًا لمجموعة واسعة من التطبيقات.

6. قابلية التوسع والتطبيق الصناعي:

تتميز تقنية ALD بأنها قابلة للتطوير بشكل كبير ويمكن دمجها بسهولة في عمليات التصنيع الحالية. إنها متوافقة مع مختلف أحجام وأشكال الركيزة، مما يجعلها مناسبة للإنتاج بكميات كبيرة.