يعد الناقل المطلي بـ SiC من Semicorex لنظام ICP Plasma Etching System حلاً موثوقًا وفعالاً من حيث التكلفة لعمليات معالجة الرقاقات ذات درجة الحرارة العالية مثل epitaxy وMOCVD. تتميز ناقلاتنا بطبقة كريستال SiC الدقيقة التي توفر مقاومة فائقة للحرارة، وحتى تجانسًا حراريًا، ومقاومة كيميائية متينة.
اقرأ أكثرإرسال استفسار