حلقات التركيز SiC

تم تصميم حلقات تركيز SiC المتطورة عالية النقاء من Semicorex لتحمل البيئات القاسية في غرف حفر البلازما (أو الحفر الجاف). نحن نركز على صناعات أشباه الموصلات مثل طبقات كربيد السيليكون وأشباه الموصلات epitaxy. تتمتع منتجاتنا بميزة سعرية جيدة وتغطي العديد من الأسواق الأوروبية والأمريكية. نتطلع إلى أن نصبح شريكك على المدى الطويل في الصين.

إرسال استفسار

وصف المنتج

لوازم Semicorex حلقات SiC التركيز مستقرة حقًا بالنسبة لـ RTA أو RTP أو التنظيف الكيميائي القاسي. تم تصميم حلقات التركيز SiC أو حلقات الحافة لتحسين اتساق الحفر حول حافة الرقاقة أو المحيط. قلل من التلوث والصيانة غير المجدولة باستخدام مكونات عالية النقاء مصممة هندسيًا لتحمل قسوة معالجة حفر البلازما. حلقات التركيز المصنوعة من SiC مع طلاء SiC هي عبارة عن طلاء كثيف ومقاوم للاهتراء من كربيد السيليكون (SiC). تتميز بخصائص مقاومة التآكل والحرارة العالية بالإضافة إلى التوصيل الحراري الممتاز. نقوم بتطبيق SiC في طبقات رقيقة على الجرافيت باستخدام عملية ترسيب البخار الكيميائي (CVD).

معلمات حلقات التركيز SiC

المواصفات الرئيسية لطلاء CVD-SIC
خصائص SiC-CVD
هيكل بلوري	مرحلة FCC Î²
كثافة	ز / سم ³	3.21
صلابة	صلابة فيكرز	2500
حجم الحبوب	Î¼ م	2 ~ 10
نقاء كيميائي	%	99.99995
السعة الحرارية	J · kg-1 · K-1	640
درجة حرارة التسامي	℃	2700
قوة فيليكسورال	MPa (RT 4 نقاط)	415
معامل يونغ	المعدل التراكمي (منحنى 4 نقاط ، 1300 درجة)	430
التمدد الحراري (CTE)	10-6 ك -1	4.5
توصيل حراري	(ث / م ك)	300