متقبل الرقاقة

تم تصنيع Semicorex Wafer Susceptor بخبرة من الجرافيت ومغطى بكربيد السيليكون (SiC) لتلبية الظروف الصعبة لتصنيع أشباه الموصلات الحديثة.

في العمليات النفوقية، يعد الحفاظ على بيئة مستقرة وخاضعة للرقابة أمرًا ضروريًا للغاية. يعمل جهاز Wafer Susceptor كمنصة أساسية يتم وضع الرقاقات عليها أثناء الترسيب، مما يلبي المتطلبات الدقيقة لتوحيد درجة الحرارة والخمول الكيميائي والقوة الميكانيكية لتحقيق طبقات فوقية عالية الجودة.

إن اختيار الجرافيت كمادة أساسية لـ Wafer Susceptor مدفوع بموصليته الحرارية الممتازة وخصائصه الميكانيكية. تعد قدرة الجرافيت على تحمل درجات الحرارة المرتفعة مع الحفاظ على السلامة الهيكلية أمرًا بالغ الأهمية في البيئات ذات درجات الحرارة المرتفعة للمفاعلات الفوقية. بالإضافة إلى ذلك، تضمن الموصلية الحرارية للجرافيت توزيعًا فعالاً للحرارة عبر الرقاقة، مما يقلل من خطر التدرجات الحرارية التي قد تؤدي إلى عيوب في الطبقة الفوقي.

لتعزيز أداء Wafer Susceptor، يتم تطبيق طبقة من كربيد السيليكون (SiC) بخبرة على قاعدة الجرافيت. تعتبر SiC مادة متينة للغاية تتمتع بمقاومة كيميائية فائقة، مما يجعلها مثالية للاستخدام في بيئات أشباه الموصلات حيث توجد الغازات التفاعلية غالبًا. يوفر طلاء SiC حاجزًا وقائيًا يحمي الجرافيت من التفاعلات الكيميائية المحتملة، مما يضمن طول عمر مستقبل الرقاقة والحفاظ على بيئة نظيفة داخل المفاعل.

يعتبر جهاز Semicorex Wafer Susceptor المصنوع من الجرافيت المطلي بـ SiC مكونًا لا غنى عنه في عمليات تنضيد أشباه الموصلات. إن الجمع بين خصائص الجرافيت الحرارية والميكانيكية مع الاستقرار الكيميائي والحراري لكربيد السيليكون يجعله مناسبًا بشكل مثالي للمتطلبات الصارمة لتصنيع أشباه الموصلات الحديثة. يوفر تصميم الرقاقة المفردة تحكمًا دقيقًا في عملية النفوق، مما يساهم في إنتاج أجهزة أشباه الموصلات عالية الجودة. يضمن هذا المستقبِل أن يتم التعامل مع الرقائق بأقصى قدر من العناية والدقة، مما يؤدي إلى طبقات فوقية متفوقة ومنتجات أشباه الموصلات ذات أداء أفضل.