رأس دش CVD مع طبقة SiC

تم تصنيع رأس الدش CVD المزود بطبقة SiC من الجرافيت عالي النقاء ومغلف بطبقة رقيقة من SiC من خلال طريقة CVD، وهو يجمع بين السمات المميزة لكل من الجرافيت وSiC. وينتج عن هذا التآزر مكونًا لا يتفوق فقط في ضمان التوزيع المتسق والدقيق للغازات، ولكنه يتميز أيضًا بمرونة ملحوظة ضد القسوة الحرارية والكيميائية التي غالبًا ما تواجهها بيئات الترسيب.

إن مفتاح الأداء الوظيفي لرأس الدش CVD المزود بطبقة SiC هو مهارته في تشتيت الغازات الأولية بشكل موحد عبر سطح الركيزة، وهي مهمة يتم تحقيقها من خلال وضعه الاستراتيجي فوق الركيزة والتصميم الدقيق للثقوب الصغيرة أو الفوهات التي تتخلل سطحه. يعد هذا التوزيع الموحد أمرًا محوريًا لتحقيق نتائج ترسيب متسقة.

إن اختيار SiC كمادة طلاء لرأس الدش CVD المزود بطبقة SiC ليس اختياريًا ولكنه يعتمد على التوصيل الحراري الفائق والثبات الكيميائي. تعتبر هذه الخصائص ضرورية لتخفيف تراكم الحرارة أثناء عملية الترسيب والحفاظ على درجة حرارة متساوية عبر الركيزة، بالإضافة إلى توفير دفاع قوي ضد الغازات المسببة للتآكل والظروف القاسية التي تميز عمليات الأمراض القلبية الوعائية.

تم تصميم رأس الدش CVD مع طبقة SiC لتلبية المتطلبات المحددة لأنظمة CVD ومتطلبات العملية المتنوعة، ويشمل شكل لوحة أو قرص مزود بمجموعة من الثقوب أو الفتحات المحسوبة بدقة. لا يضمن رأس الدش CVD مع تصميم SiC Coat التوزيع الموحد للغاز فحسب، بل يضمن أيضًا معدلات التدفق المثالية الضرورية لعملية الترسيب، مما يسلط الضوء على دور المكون كمحور أساسي في السعي لتحقيق الدقة والتوحيد في عمليات ترسيب المواد.