رأس الدش CVD-SiC

في سياق رأس الدش CVD، تم تصميم رأس الدش CVD-SiC عادةً لتوزيع الغازات الأولية بالتساوي على سطح الركيزة أثناء عملية CVD. عادة ما يتم وضع رأس الدش فوق الركيزة، وتتدفق الغازات الأولية من خلال فتحات أو فوهات صغيرة على سطحها.

توفر مادة CVD-SiC المستخدمة في رأس الدش العديد من المزايا. تساعد موصليتها الحرارية العالية على تبديد الحرارة المتولدة أثناء عملية CVD، مما يضمن توزيعًا موحدًا لدرجة الحرارة عبر الركيزة. بالإضافة إلى ذلك، يسمح الاستقرار الكيميائي لـ SiC بمقاومة الغازات المسببة للتآكل والبيئات القاسية التي تواجهها عادةً عمليات الأمراض القلبية الوعائية.

يمكن أن يختلف تصميم رأس الدش CVD-SiC وفقًا لنظام CVD ومتطلبات العملية المحددة. ومع ذلك، فهي تتكون عادةً من لوحة أو مكون على شكل قرص مع مجموعة من الثقوب أو الشقوق المحفورة بدقة. تم تصميم نمط الثقب والهندسة بعناية لضمان توزيع الغاز ومعدلات التدفق بشكل موحد عبر سطح الركيزة.