رأس دش CVD-SiC

يوفر رأس دش Semicorex CVD-SiC المتانة والإدارة الحرارية الممتازة ومقاومة التدهور الكيميائي ، مما يجعله خيارًا مناسبًا للمطالبة بعمليات CVD في صناعة أشباه الموصلات. تلتزم Semicorex بتقديم منتجات عالية الجودة بأسعار تنافسية ، ونحن نتطلع إلى أن نصبح شريكك على المدى الطويل في الصين.

إرسال استفسار

وصف المنتج

في سياق رأس دش CVD ، يتم تصميم رأس دش CVD-SiC عادةً لتوزيع الغازات الأولية بالتساوي على سطح الركيزة أثناء عملية CVD. عادة ما يتم وضع رأس الدش فوق الطبقة السفلية ، وتتدفق الغازات السليفة من خلال فتحات أو فوهات صغيرة على سطحها.

توفر مادة CVD-SiC المستخدمة في رأس الدش العديد من المزايا. تساعد الموصلية الحرارية العالية في تبديد الحرارة المتولدة أثناء عملية CVD ، مما يضمن توزيعًا منتظمًا لدرجة الحرارة عبر الركيزة. بالإضافة إلى ذلك ، فإن الاستقرار الكيميائي ل SiC يسمح لها بمقاومة الغازات المسببة للتآكل والبيئات القاسية التي تصادف عادة في عمليات CVD.

يمكن أن يختلف تصميم رأس الدش CVD-SiC اعتمادًا على نظام CVD المحدد ومتطلبات العملية. ومع ذلك ، فهي تتكون عادةً من لوحة أو مكون على شكل قرص مع مجموعة من الثقوب أو الفتحات المحفورة بدقة. تم تصميم نمط الثقب والهندسة بعناية لضمان توزيع الغاز ومعدلات التدفق المنتظم عبر سطح الركيزة.