هدف مستو أحادي البلورية من السيليكون

السيليكون أحادي البلوريةعادةً ما تتم معالجة الهدف المستوي بواسطة معدات قطع عالية الدقة من سبائك السيليكون أحادية البلورة المصنعة بواسطة طريقة Czochralski. لتلبية تنوع احتياجات العملاء، يمكن تقطيع هدف مستو السيليكون أحادي البلورية إلى الأشكال المرغوبة لعملائك الكرام. تضمن تقنية معالجة الطحن والتلميع الدقيقة التسطيح الرائع لسطح المادة المستهدفة، مما يوفر ضمانًا قويًا لترسيب الأغشية الرقيقة.

يتم وضع هدف مستو من السيليكون أحادي البلورية بالداخل في غرفة تفاعل مفرغة مع الركيزة المراد تغليفها أثناء عملية ترسيب الفيلم. عندما يتم قصف الهدف المستوي المصنوع من السيليكون أحادي البلورة بواسطة أيونات عالية الطاقة، تتناثر ذرات السيليكون الموجودة على سطحه. ثم تهاجر ذرات السيليكون المتناثرة هذه وتترسب على سطح الركيزة، لتشكل في النهاية طبقة رقيقة من السيليكون.

يعمل هدف مستو السيليكون أحادي البلورية كمصدر للمواد لترسيب الأغشية الرقيقة. جميع ذرات السيليكون المترسبة على سطح الرقاقة تنشأ من أهداف مستوية من السيليكون أحادي البلورية. لذلك، فإن جودة هدف مستو السيليكون أحادي البلورية تحدد بشكل مباشر النقاء والتوحيد والخصائص الرئيسية الأخرى للفيلم الرقيق المترسب.

تمنح خاصية النقاء الرائعة هدف مستو السيليكون أحادي البلورية القدرة على منع الشوائب من تلويث الطبقة الرقيقة. وهذا يحسن بشكل كبير الأداء الكهربائي لأجهزة أشباه الموصلات. يستفيد تحسين تجانس الأغشية الرقيقة والتصاقها من بنيتها البلورية عالية التنظيم، والتي تمكن جزيئات الاخرق من الهجرة والترسب على سطح الرقاقة بشكل أكثر انتظامًا. يعتبر تصميم الهيكل المستوي مناسبًا لمتطلبات الرش ذات المساحة الكبيرة والسرعة العالية، وينطبق على سيناريوهات الإنتاج واسعة النطاق مثل رقائق أشباه الموصلات ولوحات العرض.