أجزاء النصف الثاني للحواجز السفلية في العملية الفوقي

أجزاء النصف الثاني من Semicorex للحواجز السفلية في العملية الفوقي، مكونات مصممة بدقة مصممة لإحداث ثورة في أداء أجهزة أشباه الموصلات الخاصة بك. تلعب هذه التركيبات شبه الأسطوانية، المصممة خصيصًا لنظام السحب لمفاعلات LPE، دورًا محوريًا في تعزيز عملية النمو الفوقي. تلتزم Semicorex بتوفير منتجات عالية الجودة بأسعار تنافسية، ونحن نتطلع إلى أن نصبح شريكك على المدى الطويل في الصين.

إرسال استفسار

وصف المنتج

تتميز أجزاء النصف الثاني للحواجز السفلية في العملية الفوقي بشكل مميز شبه أسطواني، ومصممة بشكل استراتيجي لتحسين تدفق الغاز داخل المفاعل الفوقي. هذه الأجزاء مصنوعة من الجرافيت عالي الجودة مع طلاءات CVD SiC، وتضمن متانة استثنائية وثباتًا حراريًا. تم تصميمها لتحمل قسوة تصنيع أشباه الموصلات، فهي تساهم في إطالة عمر معداتك وموثوقيتها.
تم تصميم المكونات بشكل معقد لتحسين تدفق الغاز، وضمان التوزيع الفعال وترسيب المواد أثناء عملية النمو الفوقي. وينتج عن ذلك جودة طبقة فائقة على رقائق أشباه الموصلات.

التطبيقات:

مصممة للمفاعلات الفوقي في مجال تصنيع أشباه الموصلات.

المكونات الحاسمة لتحقيق نمو فوقي دقيق وموحد.

ارفع قدرات تصنيع أشباه الموصلات لديك من خلال أجزاء النصف الثاني الخاصة بنا للحواجز السفلية في العملية الفوقي. ثق في ابتكار وموثوقية مكوناتنا شبه الأسطوانية، المطلية بمادة CVD SiC لتعزيز المتانة. ابق في طليعة تكنولوجيا أشباه الموصلات مع هذه التركيبات المتقدمة، مما يضمن الأداء الأمثل وجودة الطبقة الفوقية المتسقة. اختر أجزاء النصف الثاني للحواجز السفلية في العملية الفوقي - حيث تلتقي الدقة بالتقدم.