حلقات التركيز من كربيد السيليكون

حلقات التركيز من كربيد السيليكونيتم تركيبها بشكل شائع في غرفة التفاعل الخاصة بمعدات الحفر، ويتم وضعها حول سطح دعم الرقاقة في ظرف الظرف الكهروستاتيكي. يمكن لترتيب التثبيت هذا أن يملأ فرق الارتفاع بين حافة الرقاقة والقطب الكهربائي بنجاح، مع تركيز البلازما في غرفة التفاعل على سطح الرقاقة لتحقيق نقش موحد وأيضًا منع انتشار البلازما إلى الخارج من حافة الرقاقة لتجنب مشكلة الإفراط في نقش حافة الرقاقة.

يمكن لمكونات النقش عالية الجودة أن توفر بيئة مجال كهربائي مستقرة لعملية النقش. يتم تصنيع حلقات التركيز من كربيد السيليكون من Semicorex من مواد عالية الأداءمواد كربيد السيليكونعن طريق ترسيب البخار الكيميائي. إن حلقات التركيز لدينا قادرة على ضبط توزيع المجال الكهربائي حول الرقاقة، مما يقلل بشكل كبير من انحرافات الحفر أو ظواهر التفريغ الناتجة عن المجالات الكهربائية غير المستوية.

إن رقائق أشباه الموصلات معرضة بسهولة للتلوث بالجسيمات، لذلك يجب إجراء عمليات حفر البلازما في غرف تفاعل الحفر الأيوني فائقة النظافة. باعتبارها المكون الأساسي لمعدات الحفر، فإن حلقات التركيز من كربيد السيليكون تتلامس بشكل مباشر مع حافة الرقاقة في التشغيل الفعلي، وهي مطلوبة أيضًا للوفاء بمعايير النظافة العالية جدًا. توفر حلقات التركيز من كربيد السيليكون من Semicorex مزايا النقاء العالي ومحتوى الشوائب المنخفض، والتي يمكن أن تلبي بدقة متطلبات النظافة الصارمة لعمليات حفر أشباه الموصلات. وهذا يساهم بشكل كبير في تقليل عيوب الرقاقة وتحسين إنتاجية الرقاقة.

أثناء عملية التنميش بالبلازما، يتم إدخال غازات التنميش مثل الفلور والأكسجين إلى غرفة التفاعل. تواجه مقاومة التآكل الكيميائي لمعدات الحفر تحديًا شديدًا بسبب التآكل طويل المدى الناتج عن غازات المعالجة. بفضل خاصية المقاومة الفائقة لتآكل البلازما، يعد كربيد السيليكون هو الاختيار الأمثل للمواد لتصنيع حلقات التركيز. من خلال تقليل احتمالية تلف المكونات المرتبطة بالتآكل وتقليل الحاجة إلى الاستبدال والصيانة المتكررة، يمكن لحلقات التركيز من كربيد السيليكون أن تزيد بشكل كبير من كفاءة تصنيع رقائق أشباه الموصلات.