يتم إنشاء الجرافيت المطلي بـ TaC عن طريق طلاء سطح ركيزة من الجرافيت عالي النقاء بطبقة دقيقة من كربيد التنتالوم من خلال عملية ترسيب البخار الكيميائي (CVD) الخاصة.
كربيد التنتالوم (TaC) هو مركب يتكون من التنتالوم والكربون. تتميز بموصلية كهربائية معدنية ونقطة انصهار عالية بشكل استثنائي، مما يجعلها مادة خزفية مقاومة للحرارة معروفة بقوتها وصلابتها ومقاومتها للحرارة والتآكل. تبلغ نقطة انصهار كربيدات التنتالوم ذروتها عند حوالي 3880 درجة مئوية اعتمادًا على النقاء ولها واحدة من أعلى نقاط الانصهار بين المركبات الثنائية. وهذا يجعله بديلاً جذابًا عندما تتجاوز متطلبات درجات الحرارة المرتفعة قدرات الأداء المستخدمة في العمليات الفوقية لأشباه الموصلات المركبة مثل MOCVD وLPE.
البيانات المادية لطلاء Semicorex TaC
المشاريع |
حدود |
كثافة |
14.3 (جم/سم3) |
الابتعاثية |
0.3 |
مرض الاعتلال الدماغي المزمن (×10-6/ك) |
6.3 |
صلابة (هونج كونج) |
2000 |
المقاومة (أوم سم) |
1 × 10-5 |
الاستقرار الحراري |
<2500 درجة مئوية |
تغيير أبعاد الجرافيت |
-10~-20um (القيمة المرجعية) |
سمك الطلاء |
≥20um القيمة النموذجية (35um±10um) |
|
|
ما ورد أعلاه هي القيم النموذجية |
|
يجب تصميم صينية الويفر المطلية بطبقة Semicorex TaC لتتحمل تحديات الظروف القاسية داخل غرفة التفاعل، بما في ذلك درجات الحرارة المرتفعة والبيئات التفاعلية كيميائيًا.**
اقرأ أكثرإرسال استفسارتتميز لوحة طلاء Semicorex TaC بأنها مكون عالي الأداء لعملية النمو الفوقي المطلوبة وبيئات تصنيع أشباه الموصلات الإضافية. ومع سلسلة من الخصائص المتفوقة، يمكنها في النهاية تعزيز الإنتاجية والفعالية من حيث التكلفة لعمليات تصنيع أشباه الموصلات المتقدمة.**
اقرأ أكثرإرسال استفساريعد Semicorex LPE SiC-Epi Halfmoon أحد الأصول التي لا غنى عنها في عالم النفوق، حيث يوفر حلاً قويًا للتحديات التي تفرضها درجات الحرارة المرتفعة والغازات التفاعلية ومتطلبات النقاء الصارمة.**
اقرأ أكثرإرسال استفسارلقد أصبح غطاء طلاء Semicorex CVD TaC تقنية تمكينية مهمة في البيئات الصعبة داخل المفاعلات الفوقية، والتي تتميز بدرجات الحرارة المرتفعة والغازات التفاعلية ومتطلبات النقاء الصارمة، مما يتطلب مواد قوية لضمان نمو بلوري متسق ومنع التفاعلات غير المرغوب فيها.**
اقرأ أكثرإرسال استفسارتعمل حلقة دليل طلاء Semicorex TaC بمثابة جزء أساسي ضمن معدات ترسيب البخار الكيميائي المعدني العضوي (MOCVD)، مما يضمن التوصيل الدقيق والمستقر للغازات الأولية أثناء عملية النمو الفوقي. تمثل حلقة التوجيه المطلية بـ TaC سلسلة من الخصائص التي تجعلها مثالية لتحمل الظروف القاسية الموجودة داخل غرفة مفاعل MOCVD.**
اقرأ أكثرإرسال استفساريعد ظرف الرقاقة المطلي بـ Semicorex TaC بمثابة قمة الابتكار في عملية تنضيد أشباه الموصلات، وهي مرحلة حرجة في تصنيع أشباه الموصلات. ومع التزامنا بتقديم منتجات عالية الجودة بأسعار تنافسية، فإننا نستعد لنكون شريكك على المدى الطويل في الصين.*
اقرأ أكثرإرسال استفسار