يعد Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor منتجًا متينًا وموثوقًا للغاية لزراعة الطبقات الفوقية على رقائق الويفر. مقاومة الأكسدة لدرجات الحرارة العالية والنقاء العالي تجعلها مناسبة للاستخدام في صناعة أشباه الموصلات. إن مظهرها الحراري المتساوي ونمط تدفق الغاز الرقائقي ومنع التلوث يجعلها خيارًا مثاليًا لنمو الطبقة الفوقية عالية الجودة.
اقرأ أكثرإرسال استفسارإذا كنت بحاجة إلى مستشعر الجرافيت ذو التوصيل الحراري الاستثنائي وخصائص توزيع الحرارة، فلا تبحث عن نظام Epicorex Inductively Heated Barrel Epi System. يوفر طلاء SiC عالي النقاء حماية فائقة في البيئات ذات درجات الحرارة العالية والتآكل، مما يجعله الخيار الأمثل للاستخدام في تطبيقات تصنيع أشباه الموصلات.
اقرأ أكثرإرسال استفسارإذا كنت بحاجة إلى مستقبل الجرافيت الذي يمكنه الأداء بشكل موثوق ومستمر حتى في البيئات الأكثر تطلبًا لدرجات الحرارة العالية والتآكل، فإن Semicorex Barrel Susceptor for Liquid Phase Epitaxy هو الخيار الأمثل. يوفر طلاء كربيد السيليكون توصيلًا حراريًا ممتازًا وتوزيعًا للحرارة، مما يضمن أداءً استثنائيًا في تطبيقات تصنيع أشباه الموصلات.
اقرأ أكثرإرسال استفساربفضل كثافته الفائقة وموصليته الحرارية، يعد جهاز استقبال الأسطوانات المطلي بـ Semicorex SiC للنمو الفوقي الخيار المثالي للاستخدام في البيئات ذات درجات الحرارة العالية والتآكل. يوفر منتج الجرافيت المطلي بمادة SiC عالية النقاء حماية ممتازة وتوزيعًا للحرارة، مما يضمن أداءً موثوقًا ومتسقًا في تطبيقات تصنيع أشباه الموصلات.
اقرأ أكثرإرسال استفسار