Semicorex هي شركة رائدة في تصنيع وتوريد SiC Susceptor لـ MOCVD. تم تصميم منتجنا خصيصًا لتلبية احتياجات صناعة أشباه الموصلات في تنمية الطبقة الفوقية على شريحة الرقاقة. يتم استخدام المنتج كلوحة مركزية في MOCVD، مع تصميم على شكل ترس أو حلقة. يتميز بمقاومته العالية للحرارة والتآكل، مما يجعله مثاليًا للاستخدام في البيئات القاسية.
اقرأ أكثرإرسال استفساريعد Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor منتجًا متينًا وموثوقًا للغاية لزراعة الطبقات الفوقية على رقائق الويفر. مقاومة الأكسدة لدرجات الحرارة العالية والنقاء العالي تجعلها مناسبة للاستخدام في صناعة أشباه الموصلات. إن مظهرها الحراري المتساوي ونمط تدفق الغاز الرقائقي ومنع التلوث يجعلها خيارًا مثاليًا لنمو الطبقة الفوقية عالية الجودة.
اقرأ أكثرإرسال استفسارإذا كنت تبحث عن مستقبل جرافيت عالي الجودة مطلي بمادة SiC عالية النقاء، فإن جهاز Semicorex Barrel Susceptor مع طلاء SiC في أشباه الموصلات هو الخيار الأمثل. إن التوصيل الحراري الاستثنائي وخصائص توزيع الحرارة تجعله مثاليًا للاستخدام في تطبيقات تصنيع أشباه الموصلات.
اقرأ أكثرإرسال استفساربفضل كثافته الفائقة وموصليته الحرارية، يعد جهاز استقبال الأسطوانات المطلي بـ Semicorex SiC للنمو الفوقي الخيار المثالي للاستخدام في البيئات ذات درجات الحرارة العالية والتآكل. يوفر منتج الجرافيت المطلي بمادة SiC عالية النقاء حماية ممتازة وتوزيعًا للحرارة، مما يضمن أداءً موثوقًا ومتسقًا في تطبيقات تصنيع أشباه الموصلات.
اقرأ أكثرإرسال استفساريعد جهاز Semicorex SiC المغلفة ببرميل Susceptor لـ Wafer Epitaxial هو الخيار الأمثل لتطبيقات نمو البلورة الفردية، وذلك بفضل سطحه المسطح بشكل استثنائي وطلاء SiC عالي الجودة. إن نقطة انصهاره العالية، ومقاومته للأكسدة، ومقاومة التآكل تجعله خيارًا مثاليًا للاستخدام في البيئات ذات درجات الحرارة العالية والتآكل.
اقرأ أكثرإرسال استفساريعد برميل المفاعل الفوقي المطلي بـ Semicorex SiC منتجًا من الجرافيت عالي الجودة ومغطى بمادة SiC عالية النقاء. كثافته الممتازة وموصليته الحرارية تجعله خيارًا مثاليًا للاستخدام في عمليات LPE، مما يوفر توزيعًا استثنائيًا للحرارة والحماية في البيئات المسببة للتآكل وارتفاع درجة الحرارة.
اقرأ أكثرإرسال استفسار