طلاء SiC عالي الحرارة لغرف حفر البلازما

عندما يتعلق الأمر بعمليات معالجة الرقاقات مثل epitaxy وMOCVD، فإن طلاء SiC عالي الحرارة من Semicorex لغرف حفر البلازما هو الخيار الأفضل. توفر ناقلاتنا مقاومة فائقة للحرارة، وتوحيدًا حراريًا، ومقاومة كيميائية متينة بفضل طلاء كريستال SiC الناعم.

إرسال استفسار

وصف المنتج

في Semicorex، نحن ندرك أهمية معدات معالجة الرقاقات عالية الجودة. ولهذا السبب تم تصميم طلاء SiC عالي الحرارة الخاص بغرف حفر البلازما خصيصًا لبيئات التنظيف الكيميائي القاسية ودرجات الحرارة العالية. توفر ناقلاتنا مقاطع حرارية متساوية، وأنماط تدفق الغاز الرقائقي، وتمنع انتشار التلوث أو الشوائب.
اتصل بنا اليوم لمعرفة المزيد حول طلاء SiC عالي الحرارة لغرف حفر البلازما.

معلمات طلاء SiC عالي الحرارة لغرف حفر البلازما

المواصفات الرئيسية لطلاء CVD-SIC
خصائص SiC-CVD
الهيكل البلوري	المرحلة FCC β
كثافة	جم / سم ³	3.21
صلابة	صلابة فيكرز	2500
حجم الحبوب	ميكرومتر	2~10
النقاء الكيميائي	%	99.99995
القدرة الحرارية	ي كغ-1 ك-1	640
درجة حرارة التسامي	℃	2700
قوة العطف	ميجا باسكال (RT 4 نقاط)	415
معامل يونغ	المعدل التراكمي (انحناء 4pt، 1300 درجة مئوية)	430
التمدد الحراري (C.T.E)	10-6 ك-1	4.5
الموصلية الحرارية	(ث / م ك)	300