- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
بيت
>
منتجات > كربيد السيليكون المطلي > حامل النقش لبرنامج المقارنات الدولية > حامل بسكويت الويفر ICP
حامل بسكويت الويفر ICP
حامل رقاقة النقش ICP من Semicorex هو الحل الأمثل لعمليات معالجة الرقائق ذات درجة الحرارة العالية مثل epitaxy و MOCVD. مع مقاومة أكسدة ثابتة ودرجة حرارة عالية تصل إلى 1600 درجة مئوية ، تضمن شركات النقل لدينا التشكيلات الحرارية المتساوية ، وأنماط تدفق الغاز الرقائقي ، وتمنع التلوث أو انتشار الشوائب.
إرسال استفسار
وصف المنتج
هل تبحث عن مورد موثوق به لحاملات الويفر لمعدات epitaxy؟ لا تنظر أبعد من Semicorex. تم تصميم حامل رقاقة النقش ICP الخاص بنا خصيصًا لبيئات التنظيف الكيميائية القاسية ذات درجة الحرارة العالية. مع طلاء الكريستال SiC الناعم ، توفر حاملاتنا مقاومة فائقة للحرارة ، وتوحيد حراري ، ومقاومة كيميائية متينة.
تم تصميم حامل رقاقة النقش ICP لتحقيق أفضل نمط تدفق للغاز الرقائقي ، مما يضمن توازن المظهر الحراري. هذا يساعد على منع أي تلوث أو انتشار للشوائب ، مما يضمن نمو فائق الجودة على رقاقة الويفر.
اتصل بنا اليوم لمعرفة المزيد عن حامل رقاقة النقش ICP.
معلمات حامل رقاقة النقش ICP
|
المواصفات الرئيسية لطلاء CVD-SIC |
||
|
خصائص SiC-CVD |
||
|
هيكل بلوري |
مرحلة FCC β |
|
|
كثافة |
ز / سم ³ |
3.21 |
|
صلابة |
صلابة فيكرز |
2500 |
|
حجم الحبوب |
μ م |
2 ~ 10 |
|
نقاء كيميائي |
% |
99.99995 |
|
السعة الحرارية |
J · kg-1 · K-1 |
640 |
|
درجة حرارة التسامي |
℃ |
2700 |
|
قوة فيليكسورال |
MPa (RT 4 نقاط) |
415 |
|
معامل يونغ |
المعدل التراكمي (منحنى 4 نقاط ، 1300 درجة) |
430 |
|
التمدد الحراري (CTE) |
10-6 ك -1 |
4.5 |
|
توصيل حراري |
(ث / م ك) |
300 |
ميزات حامل رقاقة النقش ICP
- تجنب التقشير والتأكد من الطلاء على كل الأسطح
مقاومة الأكسدة في درجات الحرارة العالية: مستقرة في درجات حرارة عالية تصل إلى 1600 درجة مئوية
درجة نقاء عالية: مصنوعة من ترسيب البخار الكيميائي CVD تحت ظروف الكلورة في درجات حرارة عالية.
مقاومة التآكل: صلابة عالية ، سطح كثيف وجزيئات دقيقة.
مقاومة التآكل: الكواشف الحمضية والقلوية والملح والعضوية.
- تحقيق أفضل نمط تدفق للغاز الرقائقي
- ضمان اتساق البروفايل الحراري
- منع أي تلوث أو انتشار للشوائب
الكلمات الساخنة: ICP Etching Wafer Holder ، الصين ، مصنعون ، موردون ، مصنع ، مخصص ، بالجملة ، متقدم ، متين
علامة المنتج
الفئة ذات الصلة
حامل البرميل
ناقل النقش PSS
حامل النقش لبرنامج المقارنات الدولية
RTP Carrier
مستشعر MOCVD
أحادي البلورية السيليكون
الصمام الفوقي حساس
SiC Epitaxy
GaN على SiC Epitaxy
سخان ويفر
مستحضر الفطيرة
سي إيبيتاكسي
الأجزاء الكهروضوئية
إرسال استفسار
لا تتردد في تقديم استفسارك في النموذج أدناه. سوف نقوم بالرد عليك خلال 24 ساعة.
