علبة النقش بالبلازما ICP

تم تصميم صينية النقش بالبلازما ICP من Semicorex خصيصًا لعمليات معالجة الرقاقات ذات درجة الحرارة العالية مثل النضوج وMOCVD. بفضل مقاومة الأكسدة المستقرة وعالية الحرارة التي تصل إلى 1600 درجة مئوية، توفر ناقلاتنا مقاطع حرارية متساوية وأنماط تدفق الغاز الصفائحي وتمنع انتشار التلوث أو الشوائب.

إرسال استفسار

وصف المنتج

صينية النقش بالبلازما ICP الخاصة بنا مطلية بكربيد السيليكون باستخدام طريقة CVD، وهو الحل المثالي لعمليات معالجة الرقاقات التي تتطلب درجة حرارة عالية وتنظيفًا كيميائيًا قاسيًا. تتميز ناقلات Semicorex بطبقة كريستال SiC دقيقة توفر مقاطع حرارية متساوية وأنماط تدفق الغاز الصفائحي وتمنع انتشار التلوث أو الشوائب.
في Semicorex، نركز على توفير منتجات عالية الجودة وفعالة من حيث التكلفة لعملائنا. تتميز صينية النقش بالبلازما ICP الخاصة بنا بميزة سعرية ويتم تصديرها إلى العديد من الأسواق الأوروبية والأمريكية. نحن نهدف إلى أن نكون شريكك على المدى الطويل، ونقدم منتجات ذات جودة متسقة وخدمة عملاء استثنائية.
اتصل بنا اليوم لمعرفة المزيد عن صينية النقش بالبلازما ICP.

معلمات علبة النقش بالبلازما ICP

المواصفات الرئيسية لطلاء CVD-SIC
خصائص SiC-CVD
الهيكل البلوري	المرحلة FCC β
كثافة	جم/سم ³	3.21
صلابة	صلابة فيكرز	2500
حجم الحبوب	ميكرومتر	2~10
النقاء الكيميائي	%	99.99995
القدرة الحرارية	ي كغ-1 ك-1	640
درجة حرارة التسامي	℃	2700
قوة العطف	ميجا باسكال (RT 4 نقاط)	415
معامل يونغ	المعدل التراكمي (انحناء 4pt، 1300 درجة مئوية)	430
التمدد الحراري (C.T.E)	10-6 ك-1	4.5
الموصلية الحرارية	(ث / م ك)	300