أعلنت شركة Infineon Technologies مؤخرًا عن التطوير الناجح لأول تقنية لرقائق نيتريد الغاليوم (GaN) بقوة 300 مم في العالم.
الطرق الثلاثة الرئيسية المستخدمة في تصنيع السيليكون أحادي البلورية هي طريقة تشوتشرالسكي (CZ)، وطريقة كيروبولوس، وطريقة المنطقة العائمة (FZ).
تلعب عمليات الأكسدة دورًا حاسمًا في منع مثل هذه المشكلات عن طريق إنشاء طبقة واقية على الرقاقة، تُعرف باسم طبقة الأكسيد، والتي تعمل كحاجز بين المواد الكيميائية المختلفة.
يعد نيتريد السيليكون (Si3N4) مادة أساسية في تطوير السيراميك الإنشائي المتقدم عالي الحرارة.
عملية النقش: السيليكون مقابل كربيد السيليكون
في صناعة أشباه الموصلات، تعد دقة واستقرار عملية الحفر أمرًا بالغ الأهمية. أحد العوامل الحاسمة في تحقيق النقش عالي الجودة هو ضمان أن تكون الرقائق مسطحة تمامًا على الدرج أثناء العملية.