CVD SiC المطلي بالجرافيت

The CVD SiC coated graphite susceptor is a meticulously engineered component designed to create an optimal thermal environment for the controlled deposition of thin films and coatings onto semiconductor wafers or other substrate materials. It is a critical element within a CVD reactor, serving as both a heat source and a platform for holding and positioning the substrates during the deposition process.

مزايا:

الترسيب الدقيق: يتيح مستقبل الجرافيت المطلي بـ CVD SiC الترسيب الدقيق والدقيق للأغشية الرقيقة والطلاءات، مما يؤدي إلى نتائج عالية الجودة وقابلة للتكرار.

تقليل التلوث: يقلل طلاء SiC من خطر التلوث من المستقبِل نفسه، مما يضمن نقاء المواد المترسبة.

طول العمر والمتانة: يعمل طلاء SiC على تعزيز مقاومة المستقبِل للأكسدة والتفاعلات الكيميائية، مما يساهم في طول عمره وموثوقيته على مدار الاستخدام الممتد.