طلاء SiC عبارة عن طبقة رقيقة على المستقبِل من خلال عملية ترسيب البخار الكيميائي (CVD). توفر مادة كربيد السيليكون عددًا من المزايا مقارنة بالسيليكون، بما في ذلك 10x قوة المجال الكهربائي للانهيار، و3x فجوة النطاق، مما يوفر للمادة درجة حرارة عالية ومقاومة كيميائية، ومقاومة ممتازة للتآكل بالإضافة إلى التوصيل الحراري.
توفر Semicorex خدمة مخصصة، وتساعدك على الابتكار باستخدام مكونات تدوم لفترة أطول، وتقلل من أوقات الدورة، وتحسن الإنتاجية.
يمتلك طلاء SiC العديد من المزايا الفريدة
مقاومة درجات الحرارة العالية: يمكن للمستقبل المطلي بـ CVD SiC أن يتحمل درجات حرارة عالية تصل إلى 1600 درجة مئوية دون التعرض لتدهور حراري كبير.
المقاومة الكيميائية: يوفر طلاء كربيد السيليكون مقاومة ممتازة لمجموعة واسعة من المواد الكيميائية، بما في ذلك الأحماض والقلويات والمذيبات العضوية.
مقاومة التآكل: يوفر طلاء SiC للمادة مقاومة تآكل ممتازة، مما يجعلها مناسبة للتطبيقات التي تنطوي على تآكل عالي.
التوصيل الحراري: يوفر طلاء CVD SiC للمادة موصلية حرارية عالية، مما يجعلها مناسبة للاستخدام في التطبيقات ذات درجات الحرارة العالية التي تتطلب نقل الحرارة بكفاءة.
قوة وصلابة عالية: يوفر الممتص المطلي بكربيد السيليكون للمادة قوة وصلابة عالية، مما يجعلها مناسبة للتطبيقات التي تتطلب قوة ميكانيكية عالية.
يستخدم طلاء SiC في تطبيقات مختلفة
تصنيع LED: يتم استخدام المستقبِل المطلي بـ CVD SiC في تصنيع أنواع LED المختلفة، بما في ذلك LED الأزرق والأخضر، وLED UV، وLED العميق للأشعة فوق البنفسجية، نظرًا للتوصيل الحراري العالي والمقاومة الكيميائية.
الاتصالات المتنقلة: يعد المستقبِل المطلي بـ CVD SiC جزءًا مهمًا من HEMT لإكمال عملية GaN-on-SiC الفوقي.
معالجة أشباه الموصلات: يتم استخدام المستقبِل المطلي بـ CVD SiC في صناعة أشباه الموصلات لتطبيقات مختلفة، بما في ذلك معالجة الرقاقات والنمو الفوقي.
مكونات الجرافيت المطلية بـ SiC
مصنوع من الجرافيت المطلي بطبقة كربيد السيليكون (SiC)، ويتم تطبيق الطلاء بطريقة CVD على درجات محددة من الجرافيت عالي الكثافة، لذلك يمكن أن يعمل في الفرن ذو درجة الحرارة العالية مع أكثر من 3000 درجة مئوية في جو خامل، و2200 درجة مئوية في الفراغ. .
تسمح الخصائص الخاصة والكتلة المنخفضة للمادة بمعدلات تسخين سريعة وتوزيع موحد لدرجة الحرارة ودقة فائقة في التحكم.
البيانات المادية لطلاء Semicorex SiC
خصائص نموذجية |
الوحدات |
قيم |
بناء |
|
المرحلة FCC β |
توجيه |
جزء (٪) |
111 مفضل |
الكثافة الظاهرية |
جم/سم3 |
3.21 |
صلابة |
صلابة فيكرز |
2500 |
القدرة الحرارية |
ي كغ-1 ك-1 |
640 |
التمدد الحراري 100-600 درجة مئوية (212-1112 درجة فهرنهايت) |
10-6 ك-1 |
4.5 |
معامل يونغ |
المعدل التراكمي (انحناء 4pt، 1300 درجة مئوية) |
430 |
حجم الحبوب |
ميكرومتر |
2~10 |
درجة حرارة التسامي |
℃ |
2700 |
قوة العطف |
ميجاباسكال (RT 4 نقاط) |
415 |
الموصلية الحرارية |
(ث / م ك) |
300 |
الاستنتاج إن المستقبِل المطلي بـ CVD SiC عبارة عن مادة مركبة تجمع بين خصائص المستقبِل وكربيد السيليكون. تمتلك هذه المادة خصائص فريدة، بما في ذلك مقاومة درجات الحرارة العالية والمواد الكيميائية، ومقاومة التآكل الممتازة، والموصلية الحرارية العالية، والقوة والصلابة العالية. هذه الخصائص تجعلها مادة جذابة لمختلف التطبيقات ذات درجات الحرارة العالية، بما في ذلك معالجة أشباه الموصلات، والمعالجة الكيميائية، والمعالجة الحرارية، وتصنيع الخلايا الشمسية، وتصنيع الصمام الثنائي الباعث للضوء (LED).
يعد نظام مفاعل Semicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) منتجًا مبتكرًا يوفر أداءً حراريًا ممتازًا، وحتى مظهرًا حراريًا، والتصاقًا فائقًا للطلاء. إن نقائه العالي، ومقاومته للأكسدة في درجات الحرارة العالية، ومقاومته للتآكل يجعله خيارًا مثاليًا للاستخدام في صناعة أشباه الموصلات. خياراته القابلة للتخصيص وفعاليته من حيث التكلفة تجعله منتجًا تنافسيًا للغاية في السوق.
اقرأ أكثرإرسال استفساريعد Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor منتجًا متينًا وموثوقًا للغاية لزراعة الطبقات الفوقية على رقائق الويفر. مقاومة الأكسدة لدرجات الحرارة العالية والنقاء العالي تجعلها مناسبة للاستخدام في صناعة أشباه الموصلات. إن مظهرها الحراري المتساوي ونمط تدفق الغاز الرقائقي ومنع التلوث يجعلها خيارًا مثاليًا لنمو الطبقة الفوقية عالية الجودة.
اقرأ أكثرإرسال استفسارإذا كنت بحاجة إلى مستقبل جرافيت عالي الأداء لاستخدامه في تطبيقات تصنيع أشباه الموصلات، فإن مفاعل الترسيب الفوقي للسيليكون Semicorex في المفاعل البرميلي هو الخيار الأمثل. يوفر طلاء SiC عالي النقاء والتوصيل الحراري الاستثنائي حماية فائقة وخصائص توزيع الحرارة، مما يجعله الخيار الأمثل لأداء موثوق ومتسق حتى في البيئات الأكثر تحديًا.
اقرأ أكثرإرسال استفسارإذا كنت بحاجة إلى مستشعر الجرافيت ذو التوصيل الحراري الاستثنائي وخصائص توزيع الحرارة، فلا تبحث عن نظام Epicorex Inductively Heated Barrel Epi System. يوفر طلاء SiC عالي النقاء حماية فائقة في البيئات ذات درجات الحرارة العالية والتآكل، مما يجعله الخيار الأمثل للاستخدام في تطبيقات تصنيع أشباه الموصلات.
اقرأ أكثرإرسال استفساربفضل الموصلية الحرارية الاستثنائية وخصائص توزيع الحرارة، يعد هيكل Semicorex Barrel Structure لمفاعل أشباه الموصلات الفوقي الخيار الأمثل للاستخدام في عمليات LPE وتطبيقات تصنيع أشباه الموصلات الأخرى. يوفر طلاء SiC عالي النقاء حماية فائقة في البيئات ذات درجات الحرارة العالية والتآكل.
اقرأ أكثرإرسال استفسارإذا كنت تبحث عن مستقبِل جرافيت عالي الأداء لاستخدامه في تطبيقات تصنيع أشباه الموصلات، فإن مستقبِل أسطوانة الجرافيت المطلية بـ Semicorex SiC هو الخيار المثالي. إن التوصيل الحراري الاستثنائي وخصائص توزيع الحرارة تجعله الخيار الأمثل لأداء موثوق ومتسق في البيئات ذات درجات الحرارة العالية والتآكل.
اقرأ أكثرإرسال استفسار