مستقبلات لمفاعلات MOCVD

إن مفاعلات Semicorex لمفاعلات MOCVD هي منتجات عالية الجودة تستخدم في صناعة أشباه الموصلات لتطبيقات مختلفة مثل طبقات كربيد السيليكون وأشباه الموصلات الفوقية. منتجنا متوفر على شكل تروس أو حلقة وهو مصمم لتحقيق مقاومة الأكسدة لدرجة الحرارة العالية، مما يجعله مستقرًا عند درجات حرارة تصل إلى 1600 درجة مئوية.

إرسال استفسار

وصف المنتج

يتم تصنيع مفاعلات MOCVD الخاصة بنا عن طريق ترسيب البخار الكيميائي CVD تحت ظروف الكلورة ذات درجة الحرارة العالية، مما يضمن درجة نقاء عالية. سطح المنتج كثيف، مع جزيئات دقيقة وصلابة عالية، مما يجعله مقاومًا للتآكل للأحماض والقلويات والملح والكواشف العضوية.
تم تصميم أدواتنا الخاصة بمفاعلات MOCVD لضمان الطلاء على جميع الأسطح، وتجنب التقشر، وتحقيق أفضل نمط لتدفق الغاز الصفحي. يضمن المنتج تساوي المظهر الحراري ويمنع انتشار أي تلوث أو شوائب أثناء العملية، مما يضمن نتائج عالية الجودة.
في Semicorex، نعطي الأولوية لرضا العملاء ونقدم حلولًا فعالة من حيث التكلفة. نحن نتطلع إلى أن نصبح شريكك على المدى الطويل، ونقدم منتجات عالية الجودة وخدمة عملاء استثنائية.

معلمات المستقبِلات لمفاعلات MOCVD

المواصفات الرئيسية لطلاء CVD-SIC
خصائص SiC-CVD
الهيكل البلوري	المرحلة FCC β
كثافة	جم / سم ³	3.21
صلابة	صلابة فيكرز	2500
حجم الحبوب	ميكرومتر	2~10
النقاء الكيميائي	%	99.99995
القدرة الحرارية	ي كغ-1 ك-1	640
درجة حرارة التسامي	℃	2700
قوة العطف	ميجا باسكال (RT 4 نقاط)	415
معامل يونغ	المعدل التراكمي (انحناء 4pt، 1300 درجة مئوية)	430
التمدد الحراري (C.T.E)	10-6 ك-1	4.5
الموصلية الحرارية	(ث / م ك)	300

مميزات جهاز امتصاص الجرافيت المطلي بـ SiC لـ MOCVD

- تجنب التقشير وتأكد من الطلاء على جميع الأسطح
مقاومة الأكسدة لدرجات الحرارة العالية: مستقرة عند درجات حرارة عالية تصل إلى 1600 درجة مئوية
درجة نقاء عالية: يتم تصنيعها عن طريق ترسيب البخار الكيميائي CVD تحت ظروف الكلورة ذات درجة الحرارة العالية.
مقاومة التآكل: صلابة عالية، سطح كثيف وجزيئات دقيقة.
مقاومة التآكل: الأحماض والقلويات والملح والكواشف العضوية.
- تحقيق أفضل نمط لتدفق الغاز الصفحي
- ضمان تساوي الملف الحراري
- منع انتشار أي تلوث أو شوائب